特許
J-GLOBAL ID：201003035237835160
リソグラフィ装置、基板テーブル、および基板リリース特性を向上させるための方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-543972
公開番号（公開出願番号）：特表2010-515258
出願日： 2007年12月17日
公開日（公表日）： 2010年05月06日
要約：
リソグラフィ装置が、放射ビームを調整する照明システムと、パターニングデバイスを支持するサポートとを備える。パターニングデバイスは、放射ビームの断面にパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成することが可能である。また、この装置は、基板を保持する基板テーブルと、基板のターゲット部分上にパターン付き放射ビームを投影する投影システムとを備える。基板テーブルは、ウェーハの下部表面の対応する部分を支持する複数の突起部を有するチャックを備える。突起部の少なくとも1つの頂部表面が、基板と突起部の頂部表面との間に縮小された接触面を画定する複数のエレメントを備える。
請求項（抜粋）：
放射ビームを調整する照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成することが可能なパターニングデバイスを支持するサポートと、
基板を保持する基板テーブルと、
前記基板のターゲット部分上に前記パターン付き放射ビームを投影する投影システムと
を備え、
前記基板テーブルは、ウェーハの下部表面の対応する部分を支持する複数の突起部を有するチャックを備え、
前記突起部の少なくとも1つの頂部表面が、前記基板と前記突起部の前記頂部表面との間に縮小された接触面を画定する複数のエレメントを備える、リソグラフィ装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20
, H01L 21/683
H01L21/30 503C
, G03F7/20 521
, H01L21/68 N
5F031CA02
, 5F031HA02
, 5F031HA03
, 5F031HA08
, 5F031HA10
, 5F031HA13
, 5F031HA16
, 5F031JA06
, 5F031JA38
, 5F031MA27
, 5F031NA05
, 5F046BA03
, 5F046CC08
, 5F046CC13
, 5F046CC20
, 5F046DA07
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (5件)
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