特許
J-GLOBAL ID：201003045071073343

光塩基発生剤を含有する感光性組成物

発明者：
東 啓一郎

東 啓一郎 について

, 
白石 篤志

白石 篤志 について


出願人/特許権者：
三洋化成工業株式会社

三洋化成工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-092212
公開番号（公開出願番号）：特開2010-243773
出願日： 2009年04月06日
公開日（公表日）： 2010年10月28日
要約：
【課題】 高価な成膜装置を使用することなく工程が少ないため生産性に優れ、現像によりパターン形成可能な感光性組成物を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明は、光塩基発生剤、および下記一般式(1)で表される金属アルコキシドもしくは金属キレート化合物を必須成分とし、光照射による硬化、現像することによりパターン形成することを特徴とする感光性組成物である。 Si(OR1)x(R2)4-x (1)[式中、R1は水素原子、炭素数1〜3のアルキル基またはフェニル基;R2は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基からなる群より選ばれる1種以上の置換基を表す。xは(OR1)の個数を表し、2〜4の整数を表す。]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
光塩基発生剤(A)、および下記一般式(1)で表されるアルコキシシラン(B1)または下記一般式(2)で表される金属アルコキシドもしくは金属キレート化合物(B2)を必須成分とし、活性エネルギー線照射による硬化後に現像することによりパターン形成が可能であることを特徴とする感光性組成物。 Si(OR1)x(R2)4-x (1) [式中、R1は水素原子、炭素数1〜3のアルキル基またはフェニル基;R2は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、またはフェニル基を表す。xは(OR1)の個数を表し、2〜4の整数である。] M(OR3)y (2) [式中、MはNb、Ti、Zr、Al、In、ZnおよびBaからなる群より選ばれる1種以上の原子;R3は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基、アセチルアセトナート基、およびアルキルアセトアセテート基からなる群より選ばれる1種以上の有機基を表す。yは原子Mの価数を表し、2〜5の整数である。]
IPC (6件)：
G03F 7/075 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/038 ,  H01L 21/027 ,  C08G 77/06 ,  C08G 79/00
FI (8件)：
G03F7/075 501 ,  G03F7/004 503B ,  G03F7/004 531 ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/075 511 ,  H01L21/30 502R ,  C08G77/06 ,  C08G79/00
Fターム (30件)：
2H125AG00P ,  2H125AM85P ,  2H125AN13P ,  2H125AN78P ,  2H125AN80P ,  2H125AN82P ,  2H125BA01P ,  2H125CB05 ,  2H125CC01 ,  2H125CC12 ,  2H125FA05 ,  4J030CA02 ,  4J030CC10 ,  4J030CC15 ,  4J030CD11 ,  4J030CE02 ,  4J030CE07 ,  4J030CE11 ,  4J030CF06 ,  4J030CG04 ,  4J246AA03 ,  4J246AB14 ,  4J246BA22X ,  4J246BB02X ,  4J246BB022 ,  4J246FA571 ,  4J246FB231 ,  4J246HA15 ,  4J246HA63 ,  4J246HA69
引用特許：
審査官引用 (8件)
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