特許
J-GLOBAL ID:201003033395894848

感放射線性樹脂組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 和気 操
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-312581
公開番号(公開出願番号):特開2010-134380
出願日: 2008年12月08日
公開日(公表日): 2010年06月17日
要約:
【課題】90nm以下の短波長の光源を用いた微細なレジストパターンの形成に対応することができ、解像性能に優れるだけでなく、LWRが小さく、PEB温度依存性が良好で、パターン倒れ耐性および欠陥性能に優れ、液浸露光工程においても好適に用いられる。【解決手段】側鎖にアダマンチルラクトンを有する繰り返し単位(a-1)、および酸解離性基を有する繰り返し単位(a-2)を含む樹脂(A)と、特定構造のスルホニウム塩を含む感放射線性酸発生剤(B)とを含有する。【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記式(1)で表される繰り返し単位(a-1)、および酸解離性基を有する繰り返し単位(a-2)を含む樹脂(A)と、 下記式(2)で表される化合物を含む感放射線性酸発生剤(b-1)および式(2’)で表される化合物を含む感放射線性酸発生剤(b-2)から選ばれる少なくとも1つの感放射線性酸発生剤(B)とを含有する感放射線性樹脂組成物。
IPC (5件):
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  C08F 220/26 ,  H01L 21/027 ,  C09K 3/00
FI (5件):
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  C08F220/26 ,  H01L21/30 502R ,  C09K3/00 K
Fターム (27件):
2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025CB47 ,  2H025CC20 ,  2H025FA10 ,  2H025FA12 ,  2H025FA16 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA11P ,  4J100BA11Q ,  4J100BC03Q ,  4J100BC26Q ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA04 ,  4J100JA38
引用特許:
出願人引用 (14件)
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審査官引用 (7件)
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