特許
J-GLOBAL ID:201003033395894848
感放射線性樹脂組成物
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
和気 操
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-312581
公開番号(公開出願番号):特開2010-134380
出願日: 2008年12月08日
公開日(公表日): 2010年06月17日
要約:
【課題】90nm以下の短波長の光源を用いた微細なレジストパターンの形成に対応することができ、解像性能に優れるだけでなく、LWRが小さく、PEB温度依存性が良好で、パターン倒れ耐性および欠陥性能に優れ、液浸露光工程においても好適に用いられる。【解決手段】側鎖にアダマンチルラクトンを有する繰り返し単位(a-1)、および酸解離性基を有する繰り返し単位(a-2)を含む樹脂(A)と、特定構造のスルホニウム塩を含む感放射線性酸発生剤(B)とを含有する。【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記式(1)で表される繰り返し単位(a-1)、および酸解離性基を有する繰り返し単位(a-2)を含む樹脂(A)と、
下記式(2)で表される化合物を含む感放射線性酸発生剤(b-1)および式(2’)で表される化合物を含む感放射線性酸発生剤(b-2)から選ばれる少なくとも1つの感放射線性酸発生剤(B)とを含有する感放射線性樹脂組成物。
IPC (5件):
G03F 7/039
, G03F 7/004
, C08F 220/26
, H01L 21/027
, C09K 3/00
FI (5件):
G03F7/039 601
, G03F7/004 503A
, C08F220/26
, H01L21/30 502R
, C09K3/00 K
Fターム (27件):
2H025AA02
, 2H025AA04
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025CB47
, 2H025CC20
, 2H025FA10
, 2H025FA12
, 2H025FA16
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100BA02P
, 4J100BA02Q
, 4J100BA03Q
, 4J100BA11P
, 4J100BA11Q
, 4J100BC03Q
, 4J100BC26Q
, 4J100BC53P
, 4J100BC53Q
, 4J100CA04
, 4J100JA38
引用特許:
出願人引用 (14件)
全件表示
審査官引用 (7件)
全件表示
前のページに戻る