感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (21件)：鈴江武彦 , 蔵田昌俊 , 河野哲 , 中村誠 , 福原淑弘 , 峰隆司 , 白根俊郎 , 村松貞男 , 野河信久 , 幸長保次郎 , 河野直樹 , 砂川克 , 風間鉄也 , 勝村紘 , 河井将次 , 佐藤立志 , 岡田貴志 , 堀内美保子 , 竹内将訓 , 市原卓三 , 山下元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-087539
公開番号（公開出願番号）：特開2010-044358
出願日： 2009年03月31日
公開日（公表日）： 2010年02月25日
要約：

【課題】レジストパターンの倒れ、ラインエッジラフネス、並びにスカムの発生が改良され、プロファイルの劣化も少なく、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能なレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。【解決手段】 (A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂(c)を2以上含有する樹脂、及び(D)溶剤、を含有するポジ型レジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、 (B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、 (C)フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂(c)を2以上含有する樹脂、及び (D)溶剤、を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 , G03F 7/004 , G03F 7/38 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F7/039 601 , G03F7/004 501 , G03F7/38 501 , H01L21/30 502R

Fターム (33件)：

2H025AA03 , 2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BF02 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB14 , 2H025CB34 , 2H025CB41 , 2H025CC04 , 2H025CC20 , 2H025FA01 , 2H025FA10 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 2H096AA25 , 2H096BA11 , 2H096DA04 , 2H096EA03 , 2H096EA05 , 2H096EA06 , 2H096EA07 , 2H096EA23 , 2H096FA01 , 2H096GA08 , 2H096JA02 , 2H096JA03

引用特許：

審査官引用 (9件)

ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-198897 出願人：富士フイルム株式会社
ポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物に用いられる樹脂、該樹脂の合成に用いられる化合物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-331641 出願人：富士フイルム株式会社
レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-288456 出願人：信越化学工業株式会社

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