特許
J-GLOBAL ID:200903003565464722
レジスト材料及びパターン形成方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
小島 隆司
, 重松 沙織
, 小林 克成
, 石川 武史
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-028994
公開番号(公開出願番号):特開2005-221714
出願日: 2004年02月05日
公開日(公表日): 2005年08月18日
要約:
【解決手段】 式(1’) R1SiX3 (1’)(R1は酸分解基を有する有機基、Xはハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜10のアルコキシ基、又は炭素数1〜10のアシル基である。)で示されるシランモノマー又は式(1’)のシランモノマーと式(1’’) R0SiX3 (1’’)(R0は密着性基を有する有機基、Xは上記と同じ意味を示す。)で示されるシランモノマーとを加水分解・縮合することによって得られるオルガノポリシロキサンと、式(2)で示される繰り返し単位bからなる高分子化合物とを添加してなるレジスト材料。 【化1】(R2はH等、R5は下記式から選ばれる珪素含有基である。) 【化2】【効果】 本発明のレジスト材料は、高エネルギー線に感応し、300nm以下の波長における感度、解像性、酸素プラズマエッチング耐性に優れている。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
下記一般式(1’)
R1SiX3 (1’)
(式中、R1は酸分解基を有する有機基、Xはハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜10のアルコキシ基、又は炭素数1〜10のアシル基である。)
で示されるシランモノマー又は上記一般式(1’)のシランモノマーと下記一般式(1’’)
R0SiX3 (1’’)
(式中、R0は密着性基を有する有機基、Xは上記と同じ意味を示す。)
で示されるシランモノマーとを加水分解・縮合することによって得られるオルガノポリシロキサンと、下記一般式(2)で示される繰り返し単位bからなる高分子化合物とを添加してなるレジスト材料。
IPC (4件):
G03F7/075
, C08F30/08
, G03F7/039
, H01L21/027
FI (4件):
G03F7/075 511
, C08F30/08
, G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
Fターム (70件):
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA09
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB08
, 2H025CB10
, 2H025CB14
, 2H025CB16
, 2H025CB33
, 2H025CB34
, 2H025CB41
, 2H025FA17
, 4J100AB07P
, 4J100AK32P
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100AP21R
, 4J100AR11Q
, 4J100BA03P
, 4J100BA11P
, 4J100BA11Q
, 4J100BA15Q
, 4J100BA81R
, 4J100BA82R
, 4J100BC03Q
, 4J100BC09Q
, 4J100BC53P
, 4J100BC53Q
, 4J100CA05
, 4J100DA61
, 4J100JA38
, 4J246AA03
, 4J246AB11
, 4J246BA12X
, 4J246BA120
, 4J246BB02X
, 4J246BB020
, 4J246BB022
, 4J246CA42X
, 4J246CA420
, 4J246CA460
, 4J246CA47X
, 4J246CA470
, 4J246CA53X
, 4J246CA530
, 4J246CA55X
, 4J246CA550
, 4J246CA560
, 4J246CA570
, 4J246CA58X
, 4J246CA580
, 4J246CA63X
, 4J246CA630
, 4J246CA640
, 4J246CA660
, 4J246CA770
, 4J246CA780
, 4J246CA800
, 4J246CA820
, 4J246CB08
, 4J246GB33
, 4J246GC26
, 4J246HA15
引用特許:
出願人引用 (15件)
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審査官引用 (6件)
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