特許
J-GLOBAL ID:200903003565464722

レジスト材料及びパターン形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-028994
公開番号(公開出願番号):特開2005-221714
出願日: 2004年02月05日
公開日(公表日): 2005年08月18日
要約:
【解決手段】 式(1’) R1SiX3 (1’)(R1は酸分解基を有する有機基、Xはハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜10のアルコキシ基、又は炭素数1〜10のアシル基である。)で示されるシランモノマー又は式(1’)のシランモノマーと式(1’’) R0SiX3 (1’’)(R0は密着性基を有する有機基、Xは上記と同じ意味を示す。)で示されるシランモノマーとを加水分解・縮合することによって得られるオルガノポリシロキサンと、式(2)で示される繰り返し単位bからなる高分子化合物とを添加してなるレジスト材料。 【化1】(R2はH等、R5は下記式から選ばれる珪素含有基である。) 【化2】【効果】 本発明のレジスト材料は、高エネルギー線に感応し、300nm以下の波長における感度、解像性、酸素プラズマエッチング耐性に優れている。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
下記一般式(1’) R1SiX3 (1’) (式中、R1は酸分解基を有する有機基、Xはハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜10のアルコキシ基、又は炭素数1〜10のアシル基である。) で示されるシランモノマー又は上記一般式(1’)のシランモノマーと下記一般式(1’’) R0SiX3 (1’’) (式中、R0は密着性基を有する有機基、Xは上記と同じ意味を示す。) で示されるシランモノマーとを加水分解・縮合することによって得られるオルガノポリシロキサンと、下記一般式(2)で示される繰り返し単位bからなる高分子化合物とを添加してなるレジスト材料。
IPC (4件):
G03F7/075 ,  C08F30/08 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027
FI (4件):
G03F7/075 511 ,  C08F30/08 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (70件):
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB33 ,  2H025CB34 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07P ,  4J100AK32P ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AP21R ,  4J100AR11Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA11P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA15Q ,  4J100BA81R ,  4J100BA82R ,  4J100BC03Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA05 ,  4J100DA61 ,  4J100JA38 ,  4J246AA03 ,  4J246AB11 ,  4J246BA12X ,  4J246BA120 ,  4J246BB02X ,  4J246BB020 ,  4J246BB022 ,  4J246CA42X ,  4J246CA420 ,  4J246CA460 ,  4J246CA47X ,  4J246CA470 ,  4J246CA53X ,  4J246CA530 ,  4J246CA55X ,  4J246CA550 ,  4J246CA560 ,  4J246CA570 ,  4J246CA58X ,  4J246CA580 ,  4J246CA63X ,  4J246CA630 ,  4J246CA640 ,  4J246CA660 ,  4J246CA770 ,  4J246CA780 ,  4J246CA800 ,  4J246CA820 ,  4J246CB08 ,  4J246GB33 ,  4J246GC26 ,  4J246HA15
引用特許:
出願人引用 (15件)
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審査官引用 (6件)
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