特許

J-GLOBAL ID：201103027598566568

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法

発明者： 片岡 祥平 ,  岩戸 薫 ,  上村 聡 ,  土橋 徹 ,  榎本 雄一郎 ,  藤井 佳奈 ,  水谷 一良 ,  樽谷 晋司 ,  加藤 啓太
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (18件)： 蔵田 昌俊 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  福原 淑弘 ,  峰 隆司 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  幸長 保次郎 ,  河野 直樹 ,  砂川 克 ,  勝村 紘 ,  佐藤 立志 ,  岡田 貴志 ,  堀内 美保子 ,  竹内 将訓 ,  市原 卓三 ,  山下 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-072840
公開番号（公開出願番号）：特開2011-203644
出願日： 2010年03月26日
公開日（公表日）： 2011年10月13日
要約：

【課題】エッチング耐性及びPEDに対する安定性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる基を備えた繰り返し単位を含んだ樹脂と、活性光線又は放射線の照射によりpKa≧-1.5の酸を発生する化合物とを含有している。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる基を備えた繰り返し単位を含んだ樹脂と、 活性光線又は放射線の照射によりpKa≧-1.5の酸を発生する化合物と を含有した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/038 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/28

FI (5件)：

G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/038 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/28

Fターム (79件)：

2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF19P ,  2H125AF21P ,  2H125AF32P ,  2H125AF33P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF45P ,  2H125AF55P ,  2H125AF70P ,  2H125AH05 ,  2H125AH06 ,  2H125AH07 ,  2H125AH15 ,  2H125AH19 ,  2H125AH24 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ18X ,  2H125AJ63X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ66X ,  2H125AJ69X ,  2H125AM10P ,  2H125AM12P ,  2H125AM22P ,  2H125AM23P ,  2H125AM27P ,  2H125AM30P ,  2H125AM43P ,  2H125AM66P ,  2H125AM86P ,  2H125AM99P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN45P ,  2H125AN57P ,  2H125AN58P ,  2H125AN59P ,  2H125AN62P ,  2H125AN63P ,  2H125AN64P ,  2H125AN65P ,  2H125AN82P ,  2H125AN86P ,  2H125AN88P ,  2H125BA01P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125BA33P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC01 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125CD05P ,  2H125CD35 ,  2H125FA03 ,  2H125FA05 ,  2H125FA23 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA02Q ,  4J100BA02R ,  4J100BA03R ,  4J100BA40P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC04R ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA39 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (10件)

• ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-190971   出願人：富士フイルム株式会社
• ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-200248   出願人：富士フイルム株式会社
• ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-200247   出願人：富士フイルム株式会社
• ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-095523   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-097432   出願人：東京応化工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-299022   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-336825   出願人：東京応化工業株式会社
• パターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-155323   出願人：富士フイルム株式会社
• ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-195372   出願人：富士フイルム株式会社
• レジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-133151   出願人：東京応化工業株式会社