特許
J-GLOBAL ID：201103050450945170
転写リソグラフィ・プロセスのための自動液体ディスペンス方法およびシステム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
山川 政樹
, 山川 茂樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-051870
公開番号（公開出願番号）：特開2011-176321
出願日： 2011年03月09日
公開日（公表日）： 2011年09月08日
要約：
【課題】本発明は、転写リソグラフィ・プロセスに適用可能な液体ディスペンス・システム及びディスペンス方法を提案できるようにする。【解決手段】平板状の物質または転写リソグラフィ・プロセス用の半導体ウエハを含む基板の表面に液体をディスペンスする自動液体ディスペンス方法とシステムが開示されている。本ディスペンス方法は液体ディスペンサ・チップと基板との間の相対的な動きを生成する基板ステージと液体ディスペンサを使用する。さらに、パターン化されていない平坦なテンプレートを用いて基板表面を平坦にする方法と装置も開示されている。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
基板の表面を平らにする方法であって、
基板の少なくとも一部に活性化光硬化液を塗布するステップと、
塗布された活性化光硬化液がギャップを実質的に充填するように、テンプレートが基板に対して間隔を隔てて配置され、テンプレートと基板の間にギャップが生成されるように、実質的にパターン化されていない平らなテンプレートおよび基板を互いに間隔を隔てて位置決めするステップと、
テンプレートと基板表面が実質的に平行になるようにテンプレートを調整するステップと、
活性化光の照射によって活性化光硬化液が実質的に硬化させるように、活性化光硬化液に活性化光を照射するステップと、
テンプレートと硬化した活性化光硬化液を分離するステップと、
から構成されることを特徴とする方法。
IPC (1件)：
FI (2件)：
H01L21/30 502D
, H01L21/30 578
