特許
J-GLOBAL ID：201103069549576617
基板処理装置
発明者：
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-151739
公開番号（公開出願番号）：特開2011-238950
出願日： 2011年07月08日
公開日（公表日）： 2011年11月24日
要約：
【課題】基板の端部の汚染に起因する露光装置内の汚染を防止できる基板処理装置を提供することである。【解決手段】基板処理装置500は、インデクサブロック9、反射防止膜用処理ブロック10、レジスト膜用処理ブロック11、現像処理ブロック12、レジストカバー膜用処理ブロック13、レジストカバー膜除去ブロック14、洗浄/乾燥処理ブロック15およびインターフェースブロック16を備える。基板処理装置500のインターフェースブロック16に隣接するように露光装置17が配置される。露光装置17においては、液浸法により基板Wの露光処理が行われる。洗浄/乾燥処理ブロック15の洗浄/乾燥処理部80における端部洗浄ユニットにおいては、露光処理前の基板Wの端部が洗浄される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
液浸法により基板に露光処理を行う露光装置に隣接するように配置される基板処理装置であって、
基板に処理を行う処理部と、
前記処理部の一端部に隣接するように設けられ、前記処理部と前記露光装置との間で基板の受け渡しを行うための受け渡し部とを備え、
前記受け渡し部は、前記露光装置による露光処理前に基板の端部をブラシを用いて洗浄する第1の処理ユニットを含むことを特徴とする基板処理装置。
IPC (1件)：
FI (3件)：
H01L21/30 565
, H01L21/30 562
, H01L21/30 577
5F146BA04
, 5F146BA05
, 5F146BA11
, 5F146JA15
, 5F146JA22
