特許
J-GLOBAL ID：201103076413826314
基板支持装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
加藤 朝道
, 内田 潔人
, 石田 康昌
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-584509
特許番号：特許第4499293号
出願日： 1999年11月16日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 露光装置における基板(18)の支持装置であって、
該支持装置において、該基板(18)は、X-及びY-軸方向に移動可能な台(1)上にあり、
台表面(5)と基板(18)の間には、露光器(2)に対する該基板(18)の距離及び方向を調節するための距離及び方向規定手段が配置されており、
該露光器からは、粒子線が、Z-軸方向に相応して、該基板表面に直角に照射される支持装置であって、
該距離及び方向規定手段は、該台(1)上に、該露光器(2)の方向でかつ該台表面(5)から異なる距離において、XY平面に平行に延在する2つの第一、第二支持プレート(3、16)を有し
a)該第一の支持プレート(3)は、該台(1)に振動減衰要素(9)を介して固定要素(6)により結合し、
b)該第二の支持プレート(16)は、その固着機能がオン/オフ切替可能な少なくとも1つの保持装置を介して、該第一の支持プレート(3)と結合し、該第二の支持プレート(16)は、露光器(2)に向かう側に、該基板(18)のための載置面を形成すると共に基板寸法の異なった基板(18)に対して着脱可能な保持装置を形成し、
c)該台表面(5)と基板(18)との間に介在する前記距離及び方向規定手段の全体は結合状態において、一体の結合ユニットとして構成され、温度、圧力又は機械的力により大きな影響を受けた場合にも、該基板(10)の高精度な位置が保証されるよう、寸法及び材料特性における安定性の要求に適合するものである
こと、を特徴とする基板支持装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, H01L 21/683 ( 200 6.01)
H01L 21/30 541 L
, H01L 21/68 R
