特許
J-GLOBAL ID：201103091531824465
化学増幅ポジ型レジスト材料
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
小島 隆司
, 西川 裕子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-057716
公開番号（公開出願番号）：特開2001-324812
特許番号：特許第4557115号
出願日： 2001年03月02日
公開日（公表日）： 2001年11月22日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 (A)光酸発生剤
(B)下記単位(2’’)を有する分岐型のアルカリ可溶性樹脂のフェノール性水酸基の水素原子の一部を下記一般式(1)で示される置換基で保護した、酸の作用でアルカリ現像液に対する溶解性が変化する樹脂
を含む化学増幅ポジ型レジスト材料。
C6H11-(CH2)nOCH(CH2CH3)- (1)
(式中、C6H11はシクロへキシル基を示し、nは0又は1である。)
(式中、ZZはCH2、CH(OH)、CR5(OH)、C=O、C(OR5)(OH)から選ばれる2価の有機基、あるいは-C(OH)=で表される3価の有機基を示す。Eはそれぞれ異なっても同一でもよく、正の整数、Kは正の整数であり、K/(K+E)=0.001〜0.1を満足する数である。XXは1又は2である。R4は水素原子又はメチル基を示し、R5は炭素数1〜8の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。xは0又は正の整数、yは正の整数であり、x+y≦5を満足する数である。)
IPC (5件)：
G03F 7/039 ( 200 6.01)
, C08K 5/00 ( 200 6.01)
, C08L 25/04 ( 200 6.01)
, C08L 101/02 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
G03F 7/039 601
, C08K 5/00
, C08L 25/04
, C08L 101/02
, H01L 21/30 502 R
