特許
J-GLOBAL ID：200903025175787222

描画装置及び描画方法

発明者：
菊池 浩明

菊池 浩明 について

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真玉 徹

真玉 徹 について

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藤井 武

藤井 武 について

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沢野 充

沢野 充 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (4件)： 千葉 剛宏 ,  宮寺 利幸 ,  鹿島 直樹 ,  田久保 泰夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-084488
公開番号（公開出願番号）：特開2008-242218
出願日： 2007年03月28日
公開日（公表日）： 2008年10月09日
要約：
【課題】描画ステージに対する基板の載置位置及び載置姿勢を高精度に検出するとともに、基板の両面の所定の位置にパターンを高精度に描画する。【解決手段】露光ステージ18に載置された基板Fの一方の面の輪郭部分98a〜98dをCCDカメラ22a〜22dによって撮像し、載置位置及び載置姿勢を算出して描画データを補正し、補正された描画データに基づいてパターンを露光記録した後、基板Fを反転させ、同様にして他方の面に描画データを露光記録する。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
基板を反転させて両面に所定のパターンを描画する描画装置において、 前記基板が載置される描画ステージと、 前記描画ステージに載置された前記基板の輪郭部分の画像を撮像する撮像手段と、 前記輪郭部分の画像に基づき、前記描画ステージに対する前記基板の載置位置及び載置姿勢を算出する位置姿勢算出手段と、 前記載置位置及び前記載置姿勢に基づき、前記基板に対する前記パターンの描画位置を補正する描画位置補正手段と、 前記基板の各面に対して、前記描画位置を補正した前記パターンを描画する描画手段と、 を備えることを特徴とする描画装置。
IPC (1件)：
G03F 7/20
FI (1件)：
G03F7/20 501
Fターム (6件)：
2H097AA03 ,  2H097AB07 ,  2H097BB03 ,  2H097KA20 ,  2H097KA29 ,  2H097LA09
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (10件)
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