描画方法、描画装置、描画システムおよび補正方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：中島淳 , 加藤和詳 , 西元勝一 , 福田浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-042493
公開番号（公開出願番号）：特開2006-259715
出願日： 2006年02月20日
公開日（公表日）： 2006年09月28日
要約：

【課題】露光位置合わせ機能において、感光材料の変形に対する補正を、感光材料の位置と姿勢に対する補正よりも先に行うことで、処理能力を向上することができる露光装置およびその校正方法を提供する。【解決手段】感光材料12の形状・寸法精度誤差はそれぞれの感光材料12において一枚毎に固有のものであり、予めCCDカメラ26またはその他の検出手段にてアライメントマーク13の位置を3箇所以上検出し、感光材料12の寸法精度誤差・歪み等を前もって補正するためのデータを取得しておくことができる。これにより、露光に必要な補正データの算出量を分割することができ、露光装置10上において露光前に算出する必要のある補正データ量を減らすことができる。このため露光装置10のステージ14上で感光材料12が露光位置に搬送された段階で算出する必要のあるデータ量を少なくし、露光装置10の処理能力を高めることができる。【選択図】図7

請求項（抜粋）：

対象物に設けられた位置基準マーク又はパターンを読み取って取得した基準位置データに基づいて前記対象物に対する位置合わせを行い、前記対象物を走査方向へ移動させつつ画像データに応じて対象物上に描画する描画装置の補正方法であって、前記対象物の変形に対する描画位置の補正を、前記対象物の位置に対する描画位置の補正よりも先に行うことを特徴とする描画装置の補正方法。

IPC (3件)：

G03F 9/00 , H01L 21/027 , H05K 3/00

FI (4件)：

G03F9/00 A , H01L21/30 529 , H05K3/00 G , H05K3/00 H

Fターム (8件)：

2H097AA03 , 2H097KA20 , 2H097KA22 , 2H097KA29 , 2H097LA09 , 5F046BA07 , 5F046CB18 , 5F046FA08

引用特許：

出願人引用 (1件)

アラインメント調整方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-046345 出願人：旭光学工業株式会社

審査官引用 (19件)

不均一に変更された画像を利用してプリント回路ボードを製造するためのシステムおよび方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2004-502684 出願人：オーボテックリミテッド
複層プリント回路基板製造システム及び方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2002-542182 出願人：オルボテックリミテッド
特開昭63-148628

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