特許
J-GLOBAL ID：201203020784482490

塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者：
安立 由香子

安立 由香子 について

, 
市川 幸司

市川 幸司 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-163991
公開番号（公開出願番号）：特開2012-106980
出願日： 2011年07月27日
公開日（公表日）： 2012年06月07日
要約：
【課題】得られるパターンのフォーカスマージン(DOF)及びマスクエラーファクター(MEF)が良好な塩及び該塩を含有するレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式(I)で表される塩及びこの塩を含有するレジスト組成物。[式中、R1及びR2は、それぞれ、ヒドロキシ基又はアルキル基、該アルキル基中のメチレン基はオキシ基等で置き換わっていてもよい;R3はアルキル基;l、m及びnは、それぞれ0〜3の整数;pは1〜3の整数;スルホニウムカチオンを含む複素環のメチレン基はオキシ基、カルボニル基で置き換わっていてもよい;R4及びR5はそれぞれフッ素原子又はペルフルオロアルキル基;L1は2価の飽和炭化水素基、該基中のメチレン基はオキシ基、カルボニル基で置き換わっていてもよい;Yは脂肪族炭化水素基又は飽和環状炭化水素基等、これらの基中のメチレン基はオキシ基等で置き換わっていてもよい。]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(I)で表される塩。
IPC (6件)：
C07C 309/17 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C07D 333/46 ,  C07D 335/02
FI (6件)：
C07C309/17 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C07D333/46 ,  C07D335/02
Fターム (27件)：
2H125AF13P ,  2H125AF18P ,  2H125AF21P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF70P ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4C023JA05 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB81
引用特許：
審査官引用 (12件)
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