特許
J-GLOBAL ID：201203035689290891
照明光学装置、露光装置および露光方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
長谷川 芳樹
, 黒木 義樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-074965
公開番号（公開出願番号）：特開2012-156536
出願日： 2012年03月28日
公開日（公表日）： 2012年08月16日
要約：
【課題】様々な特性を有するマスクパターンを忠実に転写するために必要な適切な照明条件、たとえば二次光源の光強度分布や偏光状態などに関して多様性に富んだ照明条件を実現できる照明光学装置を提供する。【解決手段】照明光学装置の瞳面またはその近傍に、光軸(AX)を含む中心領域に位置する光強度分布と光軸から間隔を隔てた複数の周辺領域に位置する光強度分布とを有する照明瞳分布を形成するための照明瞳形成手段3,4,7,8と、複数の周辺領域に位置する光強度分布の位置および大きさを中心領域に位置する光強度分布とは独立して変更するための領域変更手段6(6a,6b)とを備えている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
被照射面を照明する照明光学装置において、
前記照明光学装置の瞳面またはその近傍に、光軸を含む中心領域に位置する光強度分布と前記光軸から間隔を隔てた複数の周辺領域に位置する光強度分布とを有する照明瞳分布を形成するための照明瞳形成手段と、
前記複数の周辺領域に位置する光強度分布の位置および大きさを前記中心領域に位置する光強度分布とは独立して変更するための領域変更手段とを備えていることを特徴とする照明光学装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G02B 19/00
, G02B 5/04
H01L21/30 515D
, G02B19/00
, G02B5/04 F
, G02B5/04 A
2H042CA12
, 2H042CA17
, 2H052BA02
, 2H052BA09
, 2H052BA12
, 5F146BA04
, 5F146BA05
, 5F146CA04
, 5F146CB09
, 5F146CB10
, 5F146CB15
, 5F146CB43
