感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：小栗昌平 , 本多弘徳 , 市川利光 , 高松猛 , 濱田百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-262499
公開番号（公開出願番号）：特開2005-122134
出願日： 2004年09月09日
公開日（公表日）： 2005年05月12日
要約：

【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法であり、露光マージンが広く、疎密依存性が小さい優れた感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】活性光線または放射線の照射によりスルホン酸基を複数有する特定の酸を発生する化合物を含有する感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により下記一般式(I)で表されるスルホン酸を発生する化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。

IPC (3件)：

G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027

FI (3件)：

G03F7/004 503A , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R

Fターム (17件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CB45 , 2H025FA17

引用特許：

出願人引用 (16件)

ポジ型感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-125949 出願人：富士写真フイルム株式会社
日本特許第3042618号公報
ポジ型フォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-285762 出願人：富士写真フイルム株式会社

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審査官引用 (11件)

ポジ型感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-125949 出願人：富士写真フイルム株式会社
酸発生剤および感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-158808 出願人：JSR株式会社
ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-032448 出願人：富士写真フイルム株式会社

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