特許
J-GLOBAL ID：201203053762108973
酸化膜改質方法及び酸化膜改質装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (2件)：
橋本 剛
, 鵜澤 英久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-194526
公開番号（公開出願番号）：特開2012-054338
出願日： 2010年08月31日
公開日（公表日）： 2012年03月15日
要約：
【課題】紫外光による基板のダメージを最小限に抑えながら基板の酸化膜の改質を行う。【解決手段】オゾンと紫外光とを基板11に供して基板11上の酸化膜を改質する酸化膜改質装置1は、格納された基板11に対してオゾンと紫外光が供される処理炉2と、前記改質が開始されてからの基板11に供された後のオゾンガスのオゾン濃度の上昇を検出しこの検出したオゾン濃度の上昇速度の変化に基づき紫外光の照射を制御する制御部7とを備える。制御部7は前記オゾン濃度の上昇速度の低下を検出した時点で基板11に対する紫外光の照射を停止させる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
オゾンガスと紫外光とを基板に供して基板上の酸化膜を改質する酸化膜改質方法において、
前記改質が開始されてからの前記基板に供された後のオゾンガスのオゾン濃度の上昇を検出し、この検出したオゾン濃度の上昇速度の変化に基づき紫外光の照射を制御すること
を特徴とする酸化膜改質方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/316 P
, H01L21/31 E
5F045AA11
, 5F045AB31
, 5F045BB16
, 5F045DC63
, 5F045DP04
, 5F045DQ10
, 5F045GB07
, 5F058BA01
, 5F058BC02
, 5F058BC03
, 5F058BD04
, 5F058BD05
, 5F058BH03
, 5F058BH17
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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