特許
J-GLOBAL ID：201203095158835454
グラフェン及びグラファイト薄膜の作製方法、並びにグラフェン及びグラファイト薄膜基板の作製方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
山川 政樹
, 山川 茂樹
, 小池 勇三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-160405
公開番号（公開出願番号）：特開2012-020903
出願日： 2010年07月15日
公開日（公表日）： 2012年02月02日
要約：
【課題】大きさ、質のバラツキが少ないグラフェン及びグラファイト薄膜をより簡便な方法によって量産する方法を提供する。【解決手段】基板上に触媒金属を塗布して均一な膜厚の触媒金属膜を形成する。続いて、所定の温度まで基板を加熱して、炭素供給源ガスを供給する。加熱によって触媒金属の膜が凝集して形成された複数の島状の凝集体の上に、グラフェン及びグラファイト薄膜を形成する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板の上に触媒金属の膜を形成する工程と、
前記基板を加熱する工程と、
前記基板を加熱した状態で炭素供給源ガスを供給する工程と
を備え、
前記基板を加熱することにより前記触媒金属の膜が凝集して形成された複数の島状の凝集体の上にグラフェン及びグラファイト薄膜を形成する
ことを特徴とするグラフェン及びグラファイト薄膜の作製方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (17件)：
4G146AA02
, 4G146AA07
, 4G146AB07
, 4G146AC16B
, 4G146AD28
, 4G146BA12
, 4G146BA48
, 4G146BB22
, 4G146BB23
, 4G146BC09
, 4G146BC23
, 4G146BC25
, 4G146BC26
, 4G146BC33B
, 4G146BC37B
, 4G146BC42
, 4G146BC44
