特許
J-GLOBAL ID：201203098323430773
反射型露光用マスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (17件)：
蔵田 昌俊
, 高倉 成男
, 河野 哲
, 中村 誠
, 福原 淑弘
, 峰 隆司
, 白根 俊郎
, 村松 貞男
, 野河 信久
, 幸長 保次郎
, 河野 直樹
, 砂川 克
, 井関 守三
, 佐藤 立志
, 岡田 貴志
, 堀内 美保子
, 竹内 将訓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-075616
公開番号（公開出願番号）：特開2012-208415
出願日： 2011年03月30日
公開日（公表日）： 2012年10月25日
要約：
【課題】露光対象となっている回路パターン領域以外から光が反射することなく、精度よく露光転写ができる反射型露光用マスクもしくはレチクルを提供する。【解決手段】基板11上に多層反射膜12、保護膜13、吸収膜、裏面導電膜が形成された反射型マスクブランクスを準備する。次に、回路パターンとその領域外の吸収膜を選択的に除去して回路パターンと遮光枠領域を形成する。次に、前記遮光枠領域において保護膜13と多層反射膜12を除去する。加えて、前記遮光枠領域の基板とは対向位置の裏面導電膜の一部に同形状の除去領域を形成する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
基板と、
該基板上に形成された露光光を反射する多層反射膜と、
該多層反射膜上に形成された多層反射膜を保護する保護膜と、
該保護膜上に形成された露光光を吸収する吸収膜と、
該基板の多層反射膜とは反対面上に形成された導電膜を有した、
波長5から15nmの光を露光光とするリソグラフィで用いられる反射型マスクブランクであって、
前記基板は石英(SiO2)を主成分とし、酸化チタン(TiO2)を含む材料で形成され、
前記多層反射膜は前記基板上にモリブデン(Mo)を材料とする層と珪素(Si)を材料とする層とが重ねられた層が複数重ねられることで構成された多層構造で形成され、
前記保護膜は前記多層反射膜上に形成され、単層構造もしくは積層構造となっており、ルテニウム(Ru)またはシリコン(Si)のいずれかを含む材料で形成され、積層構造の場合はその最上層がルテニウム(Ru)の酸化物、窒化物、酸窒化物や珪素(Si)の酸化物、窒化物、酸窒化物のいずれかを含む材料で形成され、
前記吸収膜は、前記保護膜上に形成され、単層構造もしくは積層構造となっており、タンタル(Ta)及びその酸化物、窒化物、酸窒化物のいずれかを含む材料で形成され、積層構造の場合はその最上層がタンタル(Ta)の酸化物、窒化物、酸窒化物や珪素(Si)の酸化物、窒化物、酸窒化物のいずれかを含む材料で形成され、
前記基板の多層反射膜とは反対面上に形成された裏面導電膜は、単層構造もしくは積層構造となっており、クロム(Cr)またはタンタル(Ta)のいずれかの金属もしくはその酸化物、窒化物、酸窒化物で形成され、積層構造の場合はその基板側の層はクロム(Cr)またはタンタル(Ta)のいずれかの金属もしくはその酸化物、窒化物、酸窒化物、または酸化珪素(SiOx)のいずれかを含む材料で形成されることを特徴とする反射型マスク。
IPC (3件)：
G03F 1/22
, G03F 1/68
, H01L 21/027
G03F1/16 A
, G03F1/16 E
, H01L21/30 531M
2H095BA10
, 2H095BB01
, 2H095BC14
, 2H095BC20
, 2H095BC27
, 5F046GD01
, 5F046GD07
, 5F146GD01
, 5F146GD07
