ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：小島隆司 , 重松沙織 , 小林克成 , 石川武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-233564
公開番号（公開出願番号）：特開2013-092590
出願日： 2011年10月25日
公開日（公表日）： 2013年05月16日
要約：

【解決手段】(A)酸不安定基を含む繰り返し単位(a1)と、環状の炭化水素基を有し、その環内にエステル基、エーテル基、炭酸エステル基又はスルホン酸エステル基のうち少なくとも1つを含む繰り返し単位(a2)と、オキシラン環を有する繰り返し単位(a3)を含み、酸によってアルカリ溶解性が向上する樹脂、(B)光酸発生剤、(C)溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【効果】本発明によれば、良好なライン幅ラフネス(LWR)とマスク忠実性(MEF)を有し、微細パターンにおいても矩形性が高く、パターン倒れ耐性に優れたレジスト組成物を提供することができる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)酸不安定基を含む繰り返し単位(a1)と、環状の炭化水素基を有し、その環内にエステル基、エーテル基、炭酸エステル基又はスルホン酸エステル基のうち少なくとも1つを含む繰り返し単位(a2)と、オキシラン環を有する繰り返し単位(a3)を含み、酸によってアルカリ溶解性が向上する樹脂、(B)光酸発生剤、(C)溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 , G03F 7/004 , C08F 220/12 , H01L 21/027

FI (5件)：

G03F7/039 601 , G03F7/004 503A , G03F7/004 501 , C08F220/12 , H01L21/30 502R

Fターム (114件)：

2H125AE13P , 2H125AF12P , 2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF21P , 2H125AF26P , 2H125AF27P , 2H125AF34P , 2H125AF36P , 2H125AF38P , 2H125AF41P , 2H125AF53P , 2H125AF70P , 2H125AH15 , 2H125AH16 , 2H125AH17 , 2H125AH19 , 2H125AH24 , 2H125AH25 , 2H125AJ12X , 2H125AJ13X , 2H125AJ14X , 2H125AJ54X , 2H125AJ55X , 2H125AJ59X , 2H125AJ64X , 2H125AJ65X , 2H125AJ69X , 2H125AM22P , 2H125AM66P , 2H125AM94P , 2H125AM99P , 2H125AN31P , 2H125AN39P , 2H125AN51P , 2H125AN54P , 2H125AN62P , 2H125AN65P , 2H125AN86P , 2H125AN88P , 2H125BA01P , 2H125BA26P , 2H125BA32P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 2H125FA03 , 4J100AB07P , 4J100AJ02T , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL08S , 4J100AL08T , 4J100BA02P , 4J100BA02R , 4J100BA03T , 4J100BA11Q , 4J100BA15P , 4J100BA15Q , 4J100BA15R , 4J100BA15T , 4J100BA16T , 4J100BA20P , 4J100BA20Q , 4J100BA22P , 4J100BA40Q , 4J100BA56S , 4J100BA59T , 4J100BB07T , 4J100BB12S , 4J100BB12T , 4J100BB18S , 4J100BB18T , 4J100BC03P , 4J100BC03Q , 4J100BC03T , 4J100BC04P , 4J100BC04Q , 4J100BC04R , 4J100BC04T , 4J100BC08P , 4J100BC08Q , 4J100BC08R , 4J100BC08T , 4J100BC09P , 4J100BC09R , 4J100BC09T , 4J100BC12P , 4J100BC12R , 4J100BC15P , 4J100BC43P , 4J100BC43R , 4J100BC43T , 4J100BC45R , 4J100BC48R , 4J100BC49R , 4J100BC49T , 4J100BC52Q , 4J100BC53P , 4J100BC53Q , 4J100BC53R , 4J100BC53T , 4J100BC54R , 4J100BC58Q , 4J100BC59Q , 4J100BC59T , 4J100BC60Q , 4J100BC84Q , 4J100CA03 , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (8件)

レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-253961 出願人：公立大学法人大阪府立大学, 松下電器産業株式会社, NECエレクトロニクス株式会社
ポジ型感光性樹脂組成物、硬化膜の形成方法、硬化膜、有機EL表示装置、及び、液晶表示装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2010-144696 出願人：富士フイルム株式会社
重合体、その製造方法、レジスト組成物及びその応用
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-236356 出願人：三菱レイヨン株式会社

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