光学アセンブリ

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：杉村憲司 , 澤田達也 , 下地健一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-033269
公開番号（公開出願番号）：特開2012-124520
特許番号：特許第5540030号
出願日： 2012年02月17日
公開日（公表日）： 2012年06月28日
請求項（抜粋）：

【請求項1】マイクロリソグラフィ投影露光システムであって、少なくとも1つの光学素子、具体的には、レンズ、ミラー、絞りを有するオブジェクティブ、又は露光システムにおける光学システムあるいはアセンブリを備え、少なくとも1つの素子がマニピュレータによって影響を受けることができ、マニピュレータが精密な調整、又は光学素子又は複数の光学素子の微細な調整のための機構を含み、前記少なくとも1つのマニピュレータ(70)がステップモータ(58,71)を含み、それによって前記光学素子が調整可能であり、前記マニピュレータ(70)及び/又は前記ステップモータ(58,71)がハウジング内部に配置されている、マイクロリソグラフィ投影露光システム。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ( 200 6.01) , G03F 7/20 ( 200 6.01) , G02B 7/02 ( 200 6.01)

FI (3件)：

H01L 21/30 515 D , G03F 7/20 521 , G02B 7/02 C

引用特許：

審査官引用 (13件)

レンズの赤道直径の微少な変化による可変焦点レンズ
公報種別：公表公報出願番号：特願平8-534317 出願人：シャチャール,ロナルドエー.
投影光学系及びその製造方法、露光装置及びその製造方法、並びにマイクロデバイスの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-055754 出願人：株式会社ニコン
光学素子に目標の変形を与える方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2004-505807 出願人：カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー

全件表示

前のページに戻る