特許
J-GLOBAL ID：201503001417225480
基板処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
三好 秀和
, 伊藤 正和
, 原 裕子
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-528403
公開番号（公開出願番号）：特表2015-531171
出願日： 2013年08月23日
公開日（公表日）： 2015年10月29日
要約：
本発明の一実施形態によると、基板に対する処理が行われる基板処理装置において、上部が開放された形状を有し、一側に前記基板が出入する通路が形成されるメインチャンバと、前記メインチャンバの内部に設置されて前記基板が置かれるサセプタと、前記メインチャンバの開放された上部に設置され、前記サセプタの上部に位置する上部設置空間と前記上部設置空間の外側に配置されるガス供給通路を有するチャンバ蓋と、前記上部設置空間に設置されて前記基板を加熱するヒーティングブロックと、前記ガス供給通路と連結されて前記処理空間に向かってプロセスガスを供給するガス供給ポートと、を含む。
請求項（抜粋）：
上部が開放された形状を有するメインチャンバと、
前記メインチャンバの内部に設置されて、基板が置かれるサセプタと、
前記メインチャンバの開放された上部に設置されて、前記サセプタの上部に位置する上部設置空間と前記上部設置空間の外側に配置されるガス供給通路を有するチャンバ蓋と、
前記上部設置空間に設置されて、前記基板を加熱するヒーティングブロックと、
前記ガス供給通路と連結されて前記メインチャンバの内部にプロセスガスを供給するガス供給ポートと、を含むことを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/205
, C23C 16/455
, C23C 16/458
H01L21/205
, C23C16/455
, C23C16/458
4K030CA04
, 4K030CA12
, 4K030DA06
, 4K030EA01
, 4K030EA04
, 4K030EA11
, 4K030FA10
, 4K030GA02
, 4K030KA02
, 4K030KA12
, 4K030KA23
, 4K030KA24
, 5F045AA03
, 5F045AA06
, 5F045AB02
, 5F045AF03
, 5F045BB11
, 5F045DP04
, 5F045EB06
, 5F045EE13
, 5F045EE20
, 5F045EF05
, 5F045EF14
, 5F045EF20
, 5F045EG03
, 5F045EH18
, 5F045EK07
, 5F045EM10
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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