特許
J-GLOBAL ID：201503019049282229
複合集束イオンビーム装置及びそれを用いた加工観察方法、加工方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
特許業務法人栄光特許事務所
, 濱田 百合子
, 橋本 公秀
, 吉田 将明
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-123876
公開番号（公開出願番号）：特開2013-211280
特許番号：特許第5775903号
出願日： 2013年06月12日
公開日（公表日）： 2013年10月10日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 第1のイオンを発生させる液体金属イオン源を備えた第1のイオンビーム照射系と、
第2のイオンを発生させるガスフィールドイオン源を備えた第2のイオンビーム照射系と、
前記ガスフィールドイオン源にガスを供給するガス供給源と、を有し、
前記第2のイオンビーム照射系から射出される第2のイオンビームのビーム径が、前記第1のイオンビーム照射系から射出される第1のイオンビームのビーム径よりも小さく、
前記ガス供給源は、前記ガスフィールドイオン源に供給するガスの種類を切り替え可能であり、
前記第1のイオンビームと前記第2のイオンビームとが鋭角に交差するように、前記第1のイオンビーム照射系と前記第2のイオンビーム照射系とが配置されているとともに、
前記第1及び第2のイオンビームが照射される試料を支持する支持台を備え、
前記第2のイオンビーム照射系が前記支持台の鉛直方向の上方に配置される一方、前記第1のイオンビーム照射系が鉛直方向に対して傾斜して配置され、
前記第2のイオンビーム照射系から前記試料を加工するためにネオンイオンビーム又はアルゴンイオンビームを照射し、前記試料を観察するためにヘリウムイオンビームを照射することを特徴とする複合集束イオンビーム装置。
IPC (2件)：
H01J 37/317 ( 200 6.01)
, H01J 27/26 ( 200 6.01)
H01J 37/317 D
, H01J 27/26
出願人引用 (12件)
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審査官引用 (14件)
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