特許
J-GLOBAL ID:201703003356941885
半導体メモリ装置
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-023677
公開番号(公開出願番号):特開2012-182446
特許番号:特許第6081704号
出願日: 2012年02月07日
公開日(公表日): 2012年09月20日
請求項(抜粋):
【請求項1】 基板上に設けられた2本以上のビット線と、
前記ビット線上に設けられ、第1及び第2の溝を有する絶縁体と、
前記絶縁体の頂部に設けられた導電層と、
前記第1の溝の底面において第1のコンタクトプラグを介して前記ビット線と電気的に接続された第1の半導体領域と、
前記第1の半導体領域を介して前記第1の溝の側面と重なる第1のワード線と、
前記第2の溝の底面において第2のコンタクトプラグを介して前記ビット線と電気的に接続された第2の半導体領域と、
前記第2の半導体領域を介して前記第2の溝の側面と重なる第2のワード線と、
第3のコンタクトプラグを介して前記導電層と電気的に接続されたキャパシタと、を有し、
前記第1及び前記第2の半導体領域は、それぞれ前記第1及び前記第2の溝の底面から側面を経て前記導電層上に連続的に設けられていることを特徴とする半導体メモリ装置。
IPC (2件):
H01L 21/8242 ( 200 6.01)
, H01L 27/108 ( 200 6.01)
FI (2件):
H01L 27/10 671 A
, H01L 27/10 621 C
引用特許:
出願人引用 (10件)
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半導体装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-123001
出願人:株式会社東芝
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半導体記憶装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2007-241048
出願人:エルピーダメモリ株式会社
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半導体記憶装置及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-232862
出願人:三菱電機株式会社
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トランジスタ構造及びその製作方法
公報種別:公表公報
出願番号:特願2005-501592
出願人:ザ・ステート・オブ・オレゴン・アクティング・バイ・アンド・スルー・ザ・ステート・ボード・オブ・ハイヤー・エデュケーション・オン・ビハーフ・オブ・オレゴン・ステート・ユニバーシティ
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トランジスタ及び半導体装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-000047
出願人:科学技術振興事業団
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半導体デバイス
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-264885
出願人:科学技術振興事業団
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半導体構成及び半導体構造の形成方法
公報種別:公表公報
出願番号:特願2007-502843
出願人:マイクロンテクノロジー,インコーポレイテッド
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特開昭63-188890
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半導体装置およびその作製方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2009-252755
出願人:株式会社半導体エネルギー研究所
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半導体記憶装置およびその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-184298
出願人:三菱電機株式会社
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審査官引用 (10件)
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半導体構成及び半導体構造の形成方法
公報種別:公表公報
出願番号:特願2007-502843
出願人:マイクロンテクノロジー,インコーポレイテッド
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半導体装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-123001
出願人:株式会社東芝
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特開昭63-188890
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半導体記憶装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2007-241048
出願人:エルピーダメモリ株式会社
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半導体記憶装置及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-232862
出願人:三菱電機株式会社
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半導体装置およびその作製方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2009-252755
出願人:株式会社半導体エネルギー研究所
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トランジスタ構造及びその製作方法
公報種別:公表公報
出願番号:特願2005-501592
出願人:ザ・ステート・オブ・オレゴン・アクティング・バイ・アンド・スルー・ザ・ステート・ボード・オブ・ハイヤー・エデュケーション・オン・ビハーフ・オブ・オレゴン・ステート・ユニバーシティ
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トランジスタ及び半導体装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-000047
出願人:科学技術振興事業団
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半導体デバイス
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-264885
出願人:科学技術振興事業団
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半導体記憶装置およびその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-184298
出願人:三菱電機株式会社
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