特許
J-GLOBAL ID:201703015129455638

半導体装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 工藤 実
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-283696
公開番号(公開出願番号):特開2014-127601
特許番号:特許第6080544号
出願日: 2012年12月26日
公開日(公表日): 2014年07月07日
請求項(抜粋):
【請求項1】 DRAMのビット線配線層がビットコンタクトを介してMOSFETのゲート電極と接続するパターンを有する回路ブロック内に配置されたウェル電位拡散層と、 前記ウェル電位拡散層上に配置されたダミービットコンタクトとを具備し、 前記ダミービットコンタクトは、上層の配線層とは電気的に接続されていない素子である 半導体装置。
IPC (7件):
H01L 21/8242 ( 200 6.01) ,  H01L 27/108 ( 200 6.01) ,  H01L 21/3205 ( 200 6.01) ,  H01L 21/768 ( 200 6.01) ,  H01L 23/522 ( 200 6.01) ,  H01L 21/8234 ( 200 6.01) ,  H01L 27/088 ( 200 6.01)
FI (5件):
H01L 27/10 681 F ,  H01L 27/10 621 C ,  H01L 21/88 S ,  H01L 27/08 102 H ,  H01L 27/08 102 D
引用特許:
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (2件)

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