特許
J-GLOBAL ID：201803016898084395
ポジ型レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法、並びに、メタル層からなるパターンの形成方法、及び貫通電極の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 鈴木 三義
, 五十嵐 光永
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-232187
公開番号（公開出願番号）：特開2015-094775
特許番号：特許第6302643号
出願日： 2013年11月08日
公開日（公表日）： 2015年05月18日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 p-クレゾール繰り返し単位(a1)とm-クレゾール繰り返し単位(a2)とを主成分とするノボラック樹脂を含むアルカリ可溶性樹脂成分(A)と、フェノール化合物成分(B)と、感光性成分(C)と、を含有するポジ型レジスト組成物であって、
前記ノボラック樹脂は、前記繰り返し単位(a1)と前記繰り返し単位(a2)との混合比率(モル比)が、繰り返し単位(a1)/繰り返し単位(a2)=6/4〜9/1のノボラック樹脂(A1)と、繰り返し単位(a1)/繰り返し単位(a2)=1/9〜4/6のノボラック樹脂(A2)と、を含み、
前記ノボラック樹脂(A1)と前記ノボラック樹脂(A2)との混合比率(質量比)が、ノボラック樹脂(A1)/ノボラック樹脂(A2)=7/3〜9/1であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/023 ( 200 6.01)
, G03F 7/004 ( 200 6.01)
, C08G 8/12 ( 200 6.01)
G03F 7/023 511
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503 Z
, C08G 8/12
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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