特許
J-GLOBAL ID:201903001754883706
半導体焼結体、電気・電子部材、及び半導体焼結体の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
伊東 忠重
, 伊東 忠彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-095173
公開番号(公開出願番号):特開2019-068038
出願日: 2018年05月17日
公開日(公表日): 2019年04月25日
要約:
【課題】低い熱伝導率を有しつつ、電気伝導率を高めた焼結体材料を提供する。【解決手段】多結晶体を含む半導体焼結体であって、前記多結晶体は、シリコン、又はシリコン合金を含み、前記多結晶体を構成する結晶粒の平均粒径が1μm以下であり、前記結晶粒の粒界に、シリコンの炭化物、窒化物、酸化物の1種以上を含むナノ粒子が存在している、半導体焼結体。【選択図】図1A
請求項(抜粋):
多結晶体を含む半導体焼結体であって、
前記多結晶体は、シリコン、又はシリコン合金を含み、
前記多結晶体を構成する結晶粒の平均粒径が1μm以下であり、
前記結晶粒の粒界に、シリコンの炭化物、窒化物、酸化物の1種以上を含むナノ粒子が存在している、半導体焼結体。
IPC (3件):
H01L 35/14
, C01B 33/02
, H01L 35/34
FI (3件):
H01L35/14
, C01B33/02 E
, H01L35/34
Fターム (33件):
4G072AA02
, 4G072BB01
, 4G072BB02
, 4G072BB05
, 4G072BB12
, 4G072DD05
, 4G072GG01
, 4G072GG03
, 4G072HH01
, 4G072HH04
, 4G072JJ07
, 4G072KK17
, 4G072LL01
, 4G072LL03
, 4G072LL11
, 4G072MM01
, 4G072MM02
, 4G072MM26
, 4G072MM37
, 4G072MM38
, 4G072QQ09
, 4G072RR12
, 4G072RR13
, 4G072RR15
, 4G072RR22
, 4G072RR25
, 4G072TT01
, 4G072TT02
, 4G072TT04
, 4G072TT17
, 4G072TT19
, 4G072TT30
, 4G072UU01
引用特許:
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