特許
J-GLOBAL ID:201903005860627471
表面被覆切削工具およびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人深見特許事務所
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2019-527490
特許番号:特許第6565093号
出願日: 2018年12月27日
要約:
【要約】 基材と前記基材を被覆する被膜とを含む表面被覆切削工具であって、前記被膜は、ドメイン領域とマトリックス領域とからなる硬質被膜層を含み、前記ドメイン領域は、前記マトリックス領域中に複数の部分に分かれ、分散した状態で存在している領域であり、前記ドメイン領域は、第一Alx1Ti(1-x1)化合物からなる第一層と第二Alx2Ti(1-x2)化合物からなる第二層とが互いに積層された構造を有し、前記マトリックス領域は、第三Alx3Ti(1-x3)化合物からなる第三層と第四Alx4Ti(1-x4)化合物からなる第四層とが互いに積層された構造を有し、前記第一AlTi化合物は六方晶型の結晶構造を有し、且つ前記第二AlTi化合物は立方晶型の結晶構造を有し、前記第三AlTi化合物は六方晶型の結晶構造を有し、且つ前記第四AlTi化合物は立方晶型の結晶構造を有し、前記x1は、0.89以上0.97以下であり、前記x2は、0.5以上0.61以下であり、前記x3は、0.86以上0.95以下であり、前記x4は、0.5以上0.65以下である、表面被覆切削工具。
請求項(抜粋):
【請求項1】 基材と前記基材を被覆する被膜とを含む表面被覆切削工具であって、
前記被膜は、ドメイン領域とマトリックス領域とからなる硬質被膜層を含み、
前記ドメイン領域は、前記マトリックス領域中に複数の部分に分かれ、分散した状態で存在している領域であり、
前記ドメイン領域は、Alx1Ti(1-x1)N、Alx1Ti(1-x1)BN及びAlx1Ti(1-x1)CNからなる群より選ばれる少なくとも1種の第一AlTi化合物からなる第一層と、Alx2Ti(1-x2)N、Alx2Ti(1-x2)BN及びAlx2Ti(1-x2)CNからなる群より選ばれる少なくとも1種の第二AlTi化合物からなる第二層とが互いに積層された構造を有し、
前記マトリックス領域は、Alx3Ti(1-x3)N、Alx3Ti(1-x3)BN及びAlx3Ti(1-x3)CNからなる群より選ばれる少なくとも1種の第三AlTi化合物からなる第三層と、Alx4Ti(1-x4)N、Alx4Ti(1-x4)BN及びAlx4Ti(1-x4)CNからなる群より選ばれる少なくとも1種の第四AlTi化合物からなる第四層とが互いに積層された構造を有し、
前記第一AlTi化合物は六方晶型の結晶構造を有し、且つ前記第二AlTi化合物は立方晶型の結晶構造を有し、
前記第三AlTi化合物は六方晶型の結晶構造を有し、且つ前記第四AlTi化合物は立方晶型の結晶構造を有し、
前記x1は、0.89以上0.97以下であり、
前記x2は、0.5以上0.61以下であり、
前記x3は、0.86以上0.95以下であり、
前記x4は、0.5以上0.65以下である、表面被覆切削工具。
IPC (5件):
B23B 27/14 ( 200 6.01)
, C23C 16/30 ( 200 6.01)
, B23C 5/16 ( 200 6.01)
, B23B 51/00 ( 200 6.01)
, B23P 15/28 ( 200 6.01)
FI (5件):
B23B 27/14 A
, C23C 16/30
, B23C 5/16
, B23B 51/00 J
, B23P 15/28 A
引用特許:
引用文献:
出願人引用 (1件)
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Self-organized periodic soft-hard nanolamellae in polycrystalline TiAlN thin films
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