特許
J-GLOBAL ID：201903016528036399
図形パターンの形状補正装置および形状補正方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志村 浩
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-502260
特許番号：特許第6508504号
出願日： 2018年06月12日
要約：
【要約】元図形パターン(10)に基づくリソグラフィによって実基板(S)上に実図形パターン(20)を形成する。評価点設定ユニット(110)が、元図形パターン(10)上に評価点を設定し、特徴量抽出ユニット(120)が、評価点位置の特徴を示す特徴量(x1〜xn)を抽出する。最適補正バイアス推定ユニット(130Z)は、この特徴量に基づいて、実図形パターン(20)を元図形パターン(10)に近づけるために必要な評価点の位置補正量を示す最適補正バイアス(z)を推定する。推定は、予め実施された学習段階によって得られた学習情報(LZ)を利用して行われる。パターン補正ユニット(140Z)は、この最適補正バイアス(z)に基づいて、元図形パターン(10)の評価点の位置を移動させる補正を行い、補正図形パターン(35)を作成する。リソグラフィは、この補正図形パターン(35)を用いて実行される。
請求項（抜粋）：
【請求項1】 元図形パターンに基づくリソグラフィプロセスによって実基板上に実図形パターンを形成する際に、前記実図形パターンが前記元図形パターンに一致するように、前記元図形パターンの形状を補正して、前記リソグラフィプロセスで実際に用いる補正図形パターンを作成する図形パターンの形状補正装置であって、
前記元図形パターン上に評価点を設定する評価点設定ユニットと、
前記元図形パターンについて、前記評価点の周囲の特徴を示す特徴量を抽出する特徴量抽出ユニットと、
前記特徴量に基づいて、前記実図形パターンを前記元図形パターンに近づけるために必要な前記評価点の位置補正量を示す最適補正バイアスを推定する最適補正バイアス推定ユニットと、
前記最適補正バイアス推定ユニットが推定した最適補正バイアスに基づいて、前記元図形パターンの前記評価点の位置を移動させることにより、前記元図形パターンの形状を補正して前記補正図形パターンを作成するパターン補正ユニットと、
を備え、
前記最適補正バイアス推定ユニットは、
前記評価点について抽出された特徴量を入力する特徴量入力部と、
予め実施された学習段階によって得られた学習情報を格納しており、前記学習情報に基づいて、前記特徴量に応じた推定値を求め、求めた推定値を前記評価点についての最適補正バイアスとして出力する最適補正バイアス推定演算部と、
を有し、
前記最適補正バイアス推定演算部に格納されている学習情報が、多数のテストパターン図形について抽出された特徴量と各テストパターン図形についての最適補正バイアスとに基づいて、前記特徴量を入力として与えた場合に前記最適補正バイアスが出力されるような学習によって得られた学習情報であることを特徴とする図形パターンの形状補正装置。
IPC (5件)：
G03F 7/20 ( 200 6.01)
, G03F 1/36 ( 201 2.01)
, G06F 17/50 ( 200 6.01)
, G06N 3/02 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
G03F 7/20 501
, G03F 7/20 504
, G03F 7/20 521
, G03F 1/36
, G06F 17/50 666
, G06N 3/02
, H01L 21/30 541 E
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (11件)
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