特許
J-GLOBAL ID:202103019895251031

光電変換装置および撮像システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 阿部 琢磨 ,  黒岩 創吾
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-167346
公開番号(公開出願番号):特開2018-037468
特許番号:特許第6862129号
出願日: 2016年08月29日
公開日(公表日): 2018年03月08日
請求項(抜粋):
【請求項1】 シリコン層の受光面から入射した光によって生じた電子を信号電荷として生成する光電変換部を備える光電変換装置であって、 前記光電変換部は、前記シリコン層の中に配されたN型の第1不純物領域の少なくとも一部と、前記シリコン層の中であって前記受光面に対して垂直な方向において前記第1不純物領域に対して前記受光面とは反対側の部位に配され硼素および酸素を含むP型の第2不純物領域の少なくとも一部と、を含み、 前記第2不純物領域は、前記部位のうちで硼素濃度が最大値を示す第1部分と、前記方向において前記第1部分に対して前記第1不純物領域の側とは反対側に位置する第2部分と、前記方向において前記第1部分に対して前記第1不純物領域の側に位置する第3部分を有し、 前記第1部分の硼素濃度をBa(atoms/cm3)、酸素濃度をOa(atoms/cm3)、前記第2部分の硼素濃度をBb(atoms/cm3)、酸素濃度をOb(atoms/cm3)、前記第3部分の硼素濃度をBc(atoms/cm3)、酸素濃度をOc(atoms/cm3)として、 Ba×Oa2<Bb×Ob2と、 Bc×Oc2<Ba×Oa2と、 Ba<Oaを満たすことを特徴とする光電変換装置。
IPC (4件):
H01L 27/146 ( 200 6.01) ,  H04N 5/357 ( 201 1.01) ,  H04N 5/369 ( 201 1.01) ,  H04N 5/374 ( 201 1.01)
FI (4件):
H01L 27/146 A ,  H04N 5/357 ,  H04N 5/369 ,  H04N 5/374
引用特許:
審査官引用 (12件)
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