特許
J-GLOBAL ID:202203012603480070
表示装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
ポレール特許業務法人
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-002641
公開番号(公開出願番号):特開2019-120897
特許番号:特許第7022592号
出願日: 2018年01月11日
公開日(公表日): 2019年07月22日
請求項(抜粋):
【請求項1】 酸化物半導体で構成される薄膜トランジスタ(TFT)を有する画素が複数形成された表示装置であって、 前記酸化物半導体の上にゲート絶縁膜が形成され、 前記ゲート絶縁膜の上にアルミニウム酸化膜が形成され、 前記アルミニウム酸化膜の上にゲート電極が形成され、 前記ゲート電極の両側にサイドスペーサが形成され、 前記ゲート電極、前記サイドスペーサ及びソース及びドレインを覆って層間絶縁膜が形成され、 平面視にて、前記ドレインと前記ソースを結ぶ方向について前記ゲート電極の幅は前記アルミニウム酸化膜の幅よりも狭く形成され、 前記酸化物半導体は、チャネルと、前記チャネルの両側に前記ドレインおよび前記ソースが形成され、前記チャネルと前記ドレインの間、および、前記チャネルと前記ソースの間に中間領域が形成され、 前記酸化物半導体の前記チャネルと前記中間領域の上にゲート絶縁膜が形成され、 前記チャネルの上方で、前記アルミニウム酸化膜の上にゲート電極が形成されており、 前記層間絶縁膜は、前記酸化物半導体の前記ドレインおよび前記ソースと直接接していることを特徴とする表示装置。
IPC (6件):
G09F 9/30 ( 200 6.01)
, H01L 21/336 ( 200 6.01)
, H01L 29/786 ( 200 6.01)
, G02F 1/1368 ( 200 6.01)
, H01L 51/50 ( 200 6.01)
, H01L 27/32 ( 200 6.01)
FI (12件):
G09F 9/30 338
, H01L 29/78 616 L
, H01L 29/78 617 A
, H01L 29/78 617 U
, H01L 29/78 619 A
, H01L 29/78 617 K
, H01L 29/78 617 T
, H01L 29/78 618 B
, G02F 1/136
, H05B 33/14 A
, H01L 27/32
, G09F 9/30 365
引用特許:
審査官引用 (8件)
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半導体装置、および表示装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2017-089131
出願人:株式会社半導体エネルギー研究所
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半導体装置、表示装置および電子機器
公報種別:公開公報
出願番号:特願2013-067983
出願人:ソニー株式会社
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半導体装置の作製方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2016-186513
出願人:株式会社半導体エネルギー研究所
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半導体装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2017-160955
出願人:株式会社半導体エネルギー研究所
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薄膜トランジスタ、および薄膜トランジスタ表示板
公報種別:公開公報
出願番号:特願2013-273440
出願人:三星ディスプレイ株式會社
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半導体装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2017-044508
出願人:株式会社半導体エネルギー研究所
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半導体装置及び半導体装置の作製方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2012-245686
出願人:株式会社半導体エネルギー研究所
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半導体装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2013-096136
出願人:株式会社半導体エネルギー研究所
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