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J-GLOBAL ID:200903000898097175
回折光学素子とその形成方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (6):
深見 久郎
, 森田 俊雄
, 仲村 義平
, 堀井 豊
, 野田 久登
, 酒井 將行
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003197606
Publication number (International publication number):2004163892
Application date: Jul. 16, 2003
Publication date: Jun. 10, 2004
Summary:
【課題】実用的な回折光学素子を効率的に低コストで提供する。【解決手段】屈折率変調型回折光学素子は、透光性基板1上に形成された透光性DLC(ダイアモンド状炭素)膜2を含み、このDLC膜2は相対的に高屈折率の局所的領域2aと相対的に低屈折率の局所的領域2を含む回折格子を含んでいる。DLC膜2は基板1上にプラズマCVDで容易に堆積することができ、DLC膜中の高屈折率領域2aはイオンビームのようなエネルギビーム4を照射することによって容易に形成することができる。【選択図】 図2
Claim (excerpt):
透光性基板上に形成された透光性DLC膜を含み、このDLC膜は相対的に高屈折率の局所的領域と相対的に低屈折率の局所的領域とを含む回折格子を含んでいることを特徴とする回折光学素子。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (7):
2H049AA02
, 2H049AA06
, 2H049AA12
, 2H049AA31
, 2H049AA36
, 2H049AA41
, 2H049AA59
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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赤外線用光路の作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-100482
Applicant:株式会社半導体エネルギー研究所
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特開平4-104103
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光学素子およびそれを用いた分光装置及び偏光分離装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-071830
Applicant:日本板硝子株式会社
-
レーザー加工方法及び加工装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-212666
Applicant:セイコーエプソン株式会社
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偏光分離素子およびその作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-230531
Applicant:財団法人神奈川科学技術アカデミー
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ポリジアセチレン誘導体薄膜の製造方法および偏光分離素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-362168
Applicant:株式会社三協精機製作所
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偏光ビームスプリッタ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-280280
Applicant:ナルックス株式会社, 科学技術振興事業団
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特開昭62-071922
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