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J-GLOBAL ID:200903000898097175

回折光学素子とその形成方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (6): 深見 久郎 ,  森田 俊雄 ,  仲村 義平 ,  堀井 豊 ,  野田 久登 ,  酒井 將行
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003197606
Publication number (International publication number):2004163892
Application date: Jul. 16, 2003
Publication date: Jun. 10, 2004
Summary:
【課題】実用的な回折光学素子を効率的に低コストで提供する。【解決手段】屈折率変調型回折光学素子は、透光性基板1上に形成された透光性DLC(ダイアモンド状炭素)膜2を含み、このDLC膜2は相対的に高屈折率の局所的領域2aと相対的に低屈折率の局所的領域2を含む回折格子を含んでいる。DLC膜2は基板1上にプラズマCVDで容易に堆積することができ、DLC膜中の高屈折率領域2aはイオンビームのようなエネルギビーム4を照射することによって容易に形成することができる。【選択図】 図2
Claim (excerpt):
透光性基板上に形成された透光性DLC膜を含み、このDLC膜は相対的に高屈折率の局所的領域と相対的に低屈折率の局所的領域とを含む回折格子を含んでいることを特徴とする回折光学素子。
IPC (2):
G02B5/18 ,  G02B6/293
FI (2):
G02B5/18 ,  G02B6/28 D
F-Term (7):
2H049AA02 ,  2H049AA06 ,  2H049AA12 ,  2H049AA31 ,  2H049AA36 ,  2H049AA41 ,  2H049AA59
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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