長寿命光学部品を有する高出力遠紫外線レーザ

Inventor： , , , , , , , , , , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：熊倉禎男 , 大塚文昭 , 今城俊夫 , 西島孝喜
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2004504358
Publication number (International publication number)：2005524998
Application date： Apr. 23, 2003
Publication date： Aug. 18, 2005
Summary：

本発明は、高繰返し率高出力出力ビーム(38)を生成するモジュール式高繰返し率紫外線ガス放電レーザシステム(図1B)のための長寿命光学部品を提供する。本発明は、試作レーザシステムの出力ビーム(14C)の高パルス強度部分(10)(26)に位置するCaF2光学部品(4260)(422)(424)(426)上での、本出願人が発見した表面損傷の問題に対する種々の解決策を含む。本実施形態は、何十億の出力レーザパルス(38)のビーム伝達のビーム照準制御(40A)(40B)(6)を有する封入部(4)及びパージ処理ビーム経路(14C)を含む。本明細書で説明する光学部品及びモジュールは、何十億ものパルス(14A)に対して、200nmを下回る波長、1.75×106ワット/cm2を上回る平均出力パルス強度、及び3.5×106ワット/cm2を上回るピーク強度をもつ紫外線レーザ出力パルスを制御できるが、従来技術による構成部品及びモジュールでは、このパルス強度ではわずか数分後に故障してしまう。

Claim (excerpt)：

製造ラインマシンのためのモジュール式高フルエンス高繰返し率紫外線レーザシステムであって、 A)1)a)第1のレーザガスと、 b)放電領域を形成する、細長い間隔をあけて設けられた第1の電極対と、を含む第1の放電室、 2)少なくとも2,000パルス/秒の範囲の繰返し率で作動する際に、各パルスの後で、放電によって生成された実質的に全てのイオンを、次のパルスの前に前記第1の放電領域から除去するために、前記第1の放電領域において前記第1のレーザガスの十分なガス速度を生成するためのガス循環手段、 3)前記第1のレーザガスからレーザガス温度を所望の範囲内に維持するために熱エネルギーを除去することができる熱交換器システム、 4)前記放電領域の直下流の位置で10mJを上回るパルスエネルギー及び1×10-6ワット/cm2を上回る平均パルス強度を生成するのに十分な電気パルスを、前記第1の電極対に供給するパルス出力システム、を備える200nm未満の波長で紫外線レーザ光を生成するためのレーザ源と、 B)パルスエネルギー密度を25×10-6J/cm3未満に低減するための少なくとも1つの結晶フッ素光学部品を有するパルスエネルギー密度低減光学部品と、を備えることを特徴とするシステム。

IPC (1)：

H01S3/034

FI (1)：

H01S3/03 G

F-Term (6)：

5F071AA06 , 5F071DD04 , 5F071DD06 , 5F071DD08 , 5F071FF07 , 5F071FF09

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

米国特許第5,023,884号公報
米国特許第6,466,365号公報

Cited by examiner (11)

短波長領域のレーザ光用光学材
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-086466 Applicant：三菱マテリアル株式会社
F2レーザ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-184007 Applicant：ランブダフィジクアクチェンゲゼルシャフト
分子フッ素レーザシステム及びレーザ・ビーム帯域幅調整方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-184923 Applicant：ランブダフィジクアクチェンゲゼルシャフト

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