感放射線性樹脂組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：岩見谷周志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999065307
Publication number (International publication number)：2000258901
Application date： Mar. 11, 1999
Publication date： Sep. 22, 2000
Summary：

【要約】【課題】現像性に優れたポジ型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】 (A)p-クレゾール少なくとも5モル%、m-クレゾール及び2,3-キシレノールとからなるフェノール化合物とアルデヒドとを酸性触媒存在下で縮合して得られるアルカリ可溶性フェノール樹脂、(B)キノンジアジドスルホン酸エステル化合物、ならびに、(C)前記(A)成分のアルカリ可溶性フェノール樹脂100重量部当り5〜40重量部の、分子量100〜1000のフェノール化合物を含有してなる感放射線性樹脂組成物。

Claim (excerpt)：

(A)p-クレゾール少なくとも5モル%、m-クレゾール及び2,3-キシレノールとからなるフェノール化合物とアルデヒドとを酸性触媒存在下で縮合して得られるアルカリ可溶性フェノール樹脂、(B)キノンジアジドスルホン酸エステル化合物、ならびに、(C)前記(A)成分のアルカリ可溶性フェノール樹脂100重量部当り5〜40重量部の、分子量100〜1000のフェノール化合物を含有してなる感放射線性樹脂組成物。

IPC (3)：

G03F 7/004 501 , G03F 7/023 511 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/004 501 , G03F 7/023 511 , H01L 21/30 502 R

F-Term (16)：

2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC01 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE01 , 2H025CB28 , 2H025CB29 , 2H025CB52 , 2H025CB55 , 2H025CB56 , 2H025CC20 , 2H025FA17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-077869 Applicant：富士写真フイルム株式会社
ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-320588 Applicant：富士写真フイルム株式会社
ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-214904 Applicant：富士写真フイルム株式会社

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