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J-GLOBAL ID：200903006471519352

基板処理装置

Inventor： 福冨 義光 ,  杉本 憲司 ,  伊藤 隆 ,  岡本 健男 ,  稲垣 幸彦 ,  吉岡 勝司 ,  三橋 毅
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 杉谷 勉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002129817
Publication number (International publication number)：2003324139
Application date： May. 01, 2002
Publication date： Nov. 14, 2003
Summary：

【要約】【課題】 スループットを向上することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】 この基板処理装置は、薬液処理部と熱処理部と単一の主搬送機構とを含んでそれぞれが構成されている反射防止膜用処理ブロック2とレジスト膜用処理ブロック3と現像処理ブロック4とを並設してある。ブロック2,3,4ごとに、主搬送機構10A〜10Cがブロック内の基板搬送を行うとともに、各ブロック間の基板の受け渡しは基板載置部PASSを介して行うので、基板処理装置のスループットが向上する。

Claim (excerpt)：

基板に対して一連の薬液処理と熱処理とを行う基板処理装置において、薬液処理を行う薬液処理部と、前記薬液処理に関連した熱処理を行う熱処理部と、前記薬液処理部および前記熱処理部に対して基板の受け渡しをする単一の主搬送機構とを含んで単一の処理ブロックを構成し、異なる薬液処理ごとに構成された複数個の処理ブロックを並設してあることを特徴とする基板処理装置。

IPC (6)：

H01L 21/68 ,  B05C 9/14 ,  B05C 13/00 ,  B65G 1/00 547 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/027

FI (7)：

H01L 21/68 A ,  H01L 21/68 L ,  B05C 9/14 ,  B05C 13/00 ,  B65G 1/00 547 A ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/30 562

F-Term (66)：

2H096AA24 ,  2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096CA06 ,  2H096CA12 ,  2H096DA01 ,  2H096FA01 ,  2H096GA21 ,  3F022AA08 ,  3F022BB09 ,  3F022CC02 ,  3F022EE05 ,  3F022FF01 ,  3F022HH05 ,  3F022KK12 ,  3F022KK20 ,  3F022MM07 ,  3F022NN01 ,  3F022NN41 ,  3F022NN51 ,  3F022QQ01 ,  4F042AA02 ,  4F042AA07 ,  4F042AA10 ,  4F042DB04 ,  4F042DB10 ,  4F042DB12 ,  4F042DC01 ,  4F042DF07 ,  4F042DF25 ,  4F042DF29 ,  4F042DF34 ,  4F042ED05 ,  5F031CA01 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031DA01 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA04 ,  5F031GA06 ,  5F031GA47 ,  5F031GA49 ,  5F031JA02 ,  5F031JA22 ,  5F031KA12 ,  5F031MA02 ,  5F031MA03 ,  5F031MA13 ,  5F031MA24 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031MA30 ,  5F031MA33 ,  5F031PA03 ,  5F031PA30 ,  5F046JA04 ,  5F046JA16 ,  5F046KA04 ,  5F046KA07 ,  5F046LA01 ,  5F046LA08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (14)

• 処理時間の設定方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-141558   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
• 特表平3-500833
  
• 板状体の搬送装置および搬送方法、ならびに処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-081002   Applicant：東京エレクトロン株式会社
• 板状体の搬送装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-110421   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• クラスタ型ホトリソグラフィシステム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-165361   Applicant：セミコンダクタシステムズ,インコーポレイテッド
• 処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-220227   Applicant：東京エレクトロン株式会社
• 基板処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-298503   Applicant：東京エレクトロン株式会社
• 処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-231898   Applicant：東京エレクトロン株式会社
• 熱処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-218486   Applicant：東京エレクトロン株式会社
• 基板処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-135796   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板処理装置および基板処理システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-247780   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-141559   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
• 加熱処理方法及び加熱処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-268971   Applicant：東京エレクトロン株式会社
• 基板処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-337053   Applicant：東京エレクトロン株式会社