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J-GLOBAL ID：200903007066340139

マスクブランクス基板

Inventor：
平野 亮一

About 平野 亮一

, 
齊藤 日出夫

About 齊藤 日出夫

, 
小笠原 宗博

About 小笠原 宗博


Applicant, Patent owner：
株式会社東芝

About 株式会社東芝

, 
東芝機械株式会社

About 東芝機械株式会社


Agent (8)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  峰 隆司 ,  福原 淑弘 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004322676
Publication number (International publication number)：2006133519
Application date： Nov. 05, 2004
Publication date： May. 25, 2006
Summary：
【課題】 荷電ビーム照射に伴うレジストの帯電及び放電破壊を防止することができ、露光用マスクにおけるパターン精度の向上及び製造歩留まりの向上をはかる。【解決手段】 露光光に対して透明な基板11上の一主面に荷電ビームリソグラフィーを含むプロセスによりパターンを形成するための露光光に対して不透明な導電性の遮光体12を形成したマスクブランクス基板であって、基板11の一主面上の4隅を含む全面がく導電性材料で覆われている。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
露光光に対して透明な透明基板の一主面上に、荷電ビームリソグラフィーを含むプロセスによりパターンを形成するための、露光光に対して不透明な導電性の遮光膜を形成したマスクブランクス基板であって、 前記透明基板の一主面の全体が、前記遮光膜又は該遮光膜とそれ以外の導電膜で覆われていることを特徴とするマスクブランクス基板。
IPC (3)：
G03F 1/14 ,  C23C 14/04 ,  H01L 21/027
FI (3)：
G03F1/14 G ,  C23C14/04 A ,  H01L21/30 502P
F-Term (15)：
2H095BA01 ,  2H095BC17 ,  2H095BC26 ,  2H095BE03 ,  4K029AA08 ,  4K029AA24 ,  4K029BA07 ,  4K029BA45 ,  4K029BB03 ,  4K029BC03 ,  4K029BC07 ,  4K029BD05 ,  4K029CA01 ,  4K029CA05 ,  4K029DA12
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (8)
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Cited by examiner (7)
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