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J-GLOBAL ID:200903010923670603
ポジ型感光性組成物
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
長谷川 曉司
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994155932
Publication number (International publication number):1996022120
Application date: Jul. 07, 1994
Publication date: Jan. 23, 1996
Summary:
【要約】【目的】 遠紫外領域の光を用いたハーフミクロンリソグラフィーに対応できる、高γ値を有しかつ表面難溶化層の発生が無い化学増幅型ポジ型フォトレジストを提供する。【構成】 アルカリ可溶性樹脂、光酸発生剤及び、酸の作用によりアルカリ可溶性となる化合物を主成分として含むポジ型感光性組成物において、更にアミン化合物または含窒素複素芳香環化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
Claim (excerpt):
アルカリ可溶性樹脂、光酸発生剤及び、酸の作用によりアルカリ可溶性となる化合物を主成分として含むポジ型感光性組成物において、更にアミン化合物または含窒素複素芳香環化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
IPC (4):
G03F 7/004 502
, G03F 7/004 503
, G03F 7/039
, H01L 21/027
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
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放射感受性の組成物及び方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-304792
Applicant:シツプリイ・カンパニイ・インコーポレイテツド
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レジスト材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-285775
Applicant:日本電気株式会社
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感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-073169
Applicant:日本合成ゴム株式会社
-
感放射線性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-209404
Applicant:日本合成ゴム株式会社
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パタン形成材料及びそれを用いたパタン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-090609
Applicant:株式会社日立製作所
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特開平4-080758
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ポジ型レジスト材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-077419
Applicant:日本電信電話株式会社
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感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-217744
Applicant:株式会社東芝
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レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-125006
Applicant:株式会社東芝
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特開昭63-149640
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