接触水素化法

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：矢野敏雄 , 山崎利臣 , 久野琢也 , アインゼル・フェリックス=ラインハルト
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2002526727
Publication number (International publication number)：2004509087
Application date： Sep. 11, 2001
Publication date： Mar. 25, 2004
Summary：

式(II):[Ru(L)m(L’)wXY][式中、XおよびYは、同時にまたは独立して、水素原子またはハロゲン原子、ヒドロキシ基、またはアルコキシ、カルボキシルまたは他のアニオン性基を表し、mは、1または2であり、mが1のときwは1であり、mが2のときwは0であり、Lは、ホスフィノ-アミンまたはホスフィノ-イミン二座配位子であり、L’は、ジホスフィンである]の触媒は、炭素-ヘテロ原子二重結合を有する基質を水素化するのに有用である。

Claim (excerpt)：

分子水素(H2)を用いて錯体および塩基の存在下に基質のC=OまたはC=N二重結合を相当の水素化化合物へ水素化する方法において、前記錯体が、式(II): [Ru(L)m(L’)wXY] (II) [式中、 XおよびYは、同時にまたは独立して、水素またはハロゲン原子、ヒドロキシ基あるいはC1〜C8-アルコキシまたはアシルオキシ基を表し、 mは、1または2であり、 mが1のときwは1であり、mが2のときwは0であり; Lは、一般式:

IPC (12)：

C07C29/145 , B01J31/22 , C07C31/10 , C07C31/125 , C07C33/025 , C07C33/12 , C07C33/14 , C07C33/20 , C07C33/22 , C07F9/50 , C07F9/655 , C07F17/02

FI (12)：

C07C29/145 , B01J31/22 Z , C07C31/10 , C07C31/125 , C07C33/025 , C07C33/12 , C07C33/14 , C07C33/20 , C07C33/22 , C07F9/50 , C07F9/655 , C07F17/02

F-Term (26)：

4G069AA02 , 4G069AA08 , 4G069BA27A , 4G069BA27B , 4G069BC70A , 4G069BC70B , 4G069BE13A , 4G069BE13B , 4G069BE25A , 4G069BE25B , 4G069CB02 , 4H006AA01 , 4H006AA02 , 4H006AB40 , 4H006AC41 , 4H006BA23 , 4H006BA48 , 4H006BE20 , 4H006FC22 , 4H006FC52 , 4H006FE11 , 4H039CA60 , 4H039CB20 , 4H039CF30 , 4H050AA01 , 4H050AB40

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (14)

特開平4-139192
光学活性アルコールの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-288275 Applicant：三菱化学株式会社
アルコール類の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-316560 Applicant：新技術事業団, 碇屋隆雄, 大岡浩仁, 橋口昌平, 清藤信夫