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J-GLOBAL ID：200903032523426227

可視光感光性組成物及びパターンの製造方法

Inventor：
今井 玄児

About 今井 玄児

, 
木暮 英雄

About 木暮 英雄


Applicant, Patent owner：
関西ペイント株式会社

About 関西ペイント株式会社


Agent (1)： 小田島 平吉 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998263911
Publication number (International publication number)：1999153858
Application date： Sep. 03, 1998
Publication date： Jun. 08, 1999
Summary：
【要約】【課題】 高解像度で、微細画像パターン形成能に優れたポジ型フォトレジスト、印刷材料等に有用な熱安定性に優れた可視光感光性組成物及びこれを用いたパターンの形成方法を提供すること。【解決手段】 (A)カルボキシル基を含有する重合体もしくはカルボキシル基及びヒドロキシフェニル基を含有する重合体、又は(A′)カルボキシル基を含有する重合体と(A′′)ヒドロキシフェニル基を含有する重合体;(B)1分子中に少なくとも2個以上のビニルエーテル基を含有する化合物;(C)可視光線照射により酸を発生する化合物;及び(D)増感色素を含む熱安定性に優れた可視光感光性組成物、及びそれを用いたパターンの形成方法。
Claim (excerpt)：
(A)カルボキシル基を含有し且つ場合により、さらにヒドロキシフエニル基を含有していてもよい重合体;(B)1分子中に少なくとも2個以上のビニルエーテル基を含有する化合物;(C)可視光線照射により酸を発生する一般式【化1】式中、Rは【化2】基(ここでR1、R2及びR3はそれぞれ独立に水素原子もしくはフッ素原子を表わす)、【化3】を表わす、で示される化合物;及び(D)増感色素を含むことを特徴とする可視光感光性組成物。
IPC (10)：
G03F 7/004 503 ,  C08K 5/06 ,  C08K 5/41 ,  C08K 5/47 ,  C08L101/02 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/38 511 ,  H01L 21/027 ,  C09D 5/32
FI (11)：
G03F 7/004 503 A ,  C08K 5/06 ,  C08K 5/41 ,  C08K 5/47 ,  C08L101/02 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/38 511 ,  C09D 5/32 ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 569 F
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (14)
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