Pat
J-GLOBAL ID：200903033667465290

誘導結合型プラズマ発生装置

Inventor：
中川 行人

About 中川 行人


Applicant, Patent owner：
キヤノンアネルバ株式会社

About キヤノンアネルバ株式会社


Agent (1)： 田宮 寛祉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005031817
Publication number (International publication number)：2006221852
Application date： Feb. 08, 2005
Publication date： Aug. 24, 2006
Summary：
【課題】 真空窓の外側の2以上の高周波アンテナに流れる高周波電流の比率を適切に制御し、プラズマ密度の不均一性を改善できる誘導結合型プラズマ発生装置を提供する。【解決手段】 この誘導結合型プラズマ発生装置は、プラズマ26を生成して基板21を処理するための真空容器11、真空容器壁部に設けられる真空窓12、真空窓の外側に配置される2以上のアンテナ部分から成る高周波アンテナ13、高周波アンテナに高周波を供給する高周波電源14、基板ホルダ22を備える。さらに2以上のアンテナ部分は直列に接続された結線構造を有し、少なくとも1つのアンテナ部分に対して並列にコンデンサ31A,31Bを接続する。コンデンサの容量値は、上記の2以上のアンテナ部分に流れる高周波電流の比率が最適に調整するように設定されている。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
真空容器と、この真空容器の壁部に設けられる真空窓と、この真空窓の外側に配置される2以上のアンテナ部分から成る高周波アンテナと、この高周波アンテナに高周波を供給する高周波電源と、前記真空容器内で被処理基板を保持する基板ホルダとを備える誘導結合型プラズマ発生装置において、 前記2以上のアンテナ部分は直列に接続され、 前記2以上のアンテナ部分の少なくとも1つのアンテナ部分に対して並列にコンデンサを接続し、 前記コンデンサの容量値を、前記2以上のアンテナ部分に流れる高周波電流の比率を調整するように設定した、 ことを特徴とする誘導結合型プラズマ発生装置。
IPC (3)：
H05H 1/46 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/306
FI (4)：
H05H1/46 L ,  H05H1/46 R ,  H01L21/304 645C ,  H01L21/302 101C
F-Term (4)：
5F004AA01 ,  5F004BB11 ,  5F004BD04 ,  5F004CA03
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (8)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM