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J-GLOBAL ID：200903034031248881

洗浄装置

Inventor：
米水 昭

About 米水 昭

, 
工藤 裕幸

About 工藤 裕幸

, 
飽本 正巳

About 飽本 正巳


Applicant, Patent owner：
東京エレクトロン株式会社

About 東京エレクトロン株式会社


Agent (1)： 須山 佐一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996231900
Publication number (International publication number)：1998074725
Application date： Sep. 02, 1996
Publication date： Mar. 17, 1998
Summary：
【要約】【課題】 洗浄に使用する洗浄液の消費量を減らし、ランニングコスト及びスペースコストを低減することができる処理装置の提供。【解決手段】 噴出ノズル33、34からウエハWに噴出された洗浄液及び噴出ノズル33からダミーディスペンサ37に噴出された洗浄液を回収して循環し再利用するように構成している。
Claim (excerpt)：
被処理基板を洗浄液及び濯ぎ液を使って洗浄する洗浄手段と、前記洗浄手段で使った洗浄液を循環させて当該洗浄手段で再使用させる循環系と、前記洗浄手段で使った濯ぎ液を排出する排出系とを具備することを特徴とする洗浄装置。
IPC (3)：
H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/02
FI (3)：
H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/304 341 Z ,  B08B 3/02 B
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (16)
  • 半導体基板の表面処理方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-214422   Applicant：株式会社東芝, 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社
  • 洗浄装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-069800   Applicant：株式会社芝浦製作所
  • 液供給装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-275954   Applicant：株式会社ソニー・ディスクテクノロジー
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