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J-GLOBAL ID：200903036441822812

シルセスキオキサン系化合物混合物、その製造方法及びそれを用いたレジスト組成物並びにパターン形成方法

Inventor：
濱田 吉隆

About 濱田 吉隆

, 
中島 睦雄

About 中島 睦雄

, 
野田 和美

About 野田 和美

, 
竹村 勝也

About 竹村 勝也


Applicant, Patent owner：
信越化学工業株式会社

About 信越化学工業株式会社


Agent (4)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006084411
Publication number (International publication number)：2006307180
Application date： Mar. 27, 2006
Publication date： Nov. 09, 2006
Summary：
【解決手段】一般式(1)(Yは官能基を有してもよい脂肪族有機基、又は官能基を有してもよい芳香族構造を含む有機基、X1,X2,X3はH、ハロゲン原子、アルコキシ基、又はアリーロキシ基を示す。)で示される側鎖に嵩高い置換基を有する3官能性シランを含むシラン原料を酸又は塩基を触媒とする第1段の加水分解後、第2段として上記シラン原料に強塩基触媒の存在下、縮合による生成する水を反応系外に除去する操作を伴う脱水縮合反応を行う側鎖に嵩高い置換基を有する縮合度100%であるシルセスキオキサン型化合物高含量のシルセスキオキサン系化合物混合物の製造方法。【効果】本発明によれば、嵩高い置換基を有する縮合度が実質的に100%であるシルセスキオキサン型化合物の存在比の高いシルセスキオキサン系化合物混合物を容易かつ確実に得ることができ、この混合物は、ポジ型レジスト組成物に好適な材料である。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
下記一般式(1)
IPC (5)：
C08G 77/06 ,  G03F 7/075 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027
FI (5)：
C08G77/06 ,  G03F7/075 521 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R
F-Term (58)：
2H025AA02 ,  2H025AA10 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB33 ,  2H025CB41 ,  2H025CC03 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025FA12 ,  2H025FA41 ,  4J246AA03 ,  4J246AB07 ,  4J246BA12X ,  4J246BA120 ,  4J246BB02X ,  4J246BB020 ,  4J246BB022 ,  4J246CA010 ,  4J246CA030 ,  4J246CA14X ,  4J246CA140 ,  4J246CA210 ,  4J246CA250 ,  4J246CA260 ,  4J246CA390 ,  4J246CA400 ,  4J246CA410 ,  4J246CA46X ,  4J246CA460 ,  4J246CA530 ,  4J246CA63X ,  4J246CA630 ,  4J246CA66X ,  4J246CA660 ,  4J246FA071 ,  4J246FA081 ,  4J246FA121 ,  4J246FA131 ,  4J246FA371 ,  4J246FA381 ,  4J246FA431 ,  4J246FB081 ,  4J246FB211 ,  4J246FC061 ,  4J246GA01 ,  4J246GA02 ,  4J246GA11 ,  4J246GA12 ,  4J246GC26 ,  4J246GD08 ,  4J246HA15
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (16)
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Cited by examiner (16)
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