Pat
J-GLOBAL ID:200903041954957555
微細導体を有するパターン化デバイスを検査するシステム及び方法
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (5):
北澤 一浩
, 小泉 伸
, 市川 朗子
, 松下 ひろ美
, 立石 博臣
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007014808
Publication number (International publication number):2007199066
Application date: Jan. 25, 2007
Publication date: Aug. 09, 2007
Summary:
【課題】 パターン化デバイスの欠陥のタイプを簡便に分類し、欠陥の原因分析による歩留まり向上が可能な微細導体を有するパターン化デバイスを検査するシステム及び方法を提供する。【解決手段】 パターン化デバイスの検査システムは、パターン化基板上の欠陥候補の位置を観察し、その位置の少なくとも1つの画像を取得するカメラを有する。当該カメラは光軸を規定し、取得される画像は、少なくとも、光軸からずれ、パターン化基板の平面に対応する平面において互いに非平行な第1の照明軸及び第2の照明軸に沿って供給される照明により照明される。その互いに非平行に供給される照明に対する応答は、互いに区別可能である。また、少なくとも1つの画像を受け取り、切削による欠陥候補若しくは余分な材料による欠陥候補を互いに、且つ/又は他のタイプの欠陥候補と区別するように動作する欠陥分類器とを備える。【選択図】 図10
Claim (excerpt):
微細導体を有するパターン化デバイスを検査するように動作する検査システムであって、
平面を規定するパターン化基板上の欠陥候補の位置を観察し、そこで該位置の少なくとも1つの画像を取得するカメラであり、該カメラは光軸を規定し、前記少なくとも1つの画像は、該光軸からずれた少なくとも1つの光源からの照明により照明され、該照明は少なくとも、前記平面に相当する平面において互いに非平行な第1の照明経路及び第2の照明経路に沿って供給され、このとき、該第1の照明経路に沿って供給される照明に対する応答が、該第2の照明経路に沿って供給される照明に対する応答と区別可能であるカメラと、
前記少なくとも1つの画像を受け取り、前記画像において、前記パターン化基板に対して異質の粒子によって生じた欠陥候補を他のタイプの欠陥候補と区別するように動作する欠陥分類器と
を有することを特徴とする微細導体を有するパターン化デバイスを検査するように動作する検査システム。
IPC (3):
G01N 21/956
, G01B 11/24
, G06T 1/00
FI (4):
G01N21/956 Z
, G01B11/24 K
, G01B11/24 F
, G06T1/00 305A
F-Term (47):
2F065AA49
, 2F065AA53
, 2F065AA61
, 2F065BB02
, 2F065CC17
, 2F065CC25
, 2F065DD03
, 2F065DD06
, 2F065FF04
, 2F065FF41
, 2F065GG07
, 2F065GG17
, 2F065GG23
, 2F065HH08
, 2F065HH12
, 2F065HH14
, 2F065HH16
, 2F065JJ03
, 2F065JJ26
, 2F065LL04
, 2F065MM02
, 2F065QQ23
, 2F065QQ24
, 2F065QQ31
, 2G051AA61
, 2G051AA90
, 2G051AB01
, 2G051AB02
, 2G051AB11
, 2G051BA02
, 2G051BA08
, 2G051BB05
, 2G051CA04
, 2G051CB01
, 2G051CB05
, 2G051EC01
, 2G086EE10
, 5B057AA03
, 5B057BA02
, 5B057BA15
, 5B057BA19
, 5B057CH18
, 5B057DA03
, 5B057DB02
, 5B057DB06
, 5B057DC25
, 5B057DC40
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (16)
-
特許第2914967号
-
欠陥検査装置およびその方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-206078
Applicant:株式会社日立製作所, 日立電子エンジニアリング株式会社
-
特許第2914967号
-
被検査面の欠陥検査方法およびその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-287000
Applicant:日産自動車株式会社
-
欠陥検査方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-073504
Applicant:株式会社日立ハイテクノロジーズ
-
特許第2914967号
-
半導体装置の回路パタン検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-018308
Applicant:山形日本電気株式会社
-
ガラス基板の欠陥種別判定方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-087049
Applicant:日立電子エンジニアリング株式会社
-
表面欠陥検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-009101
Applicant:日本電気株式会社
-
欠陥検査装置およびその方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-056547
Applicant:株式会社日立製作所, 日立電子エンジニアリング株式会社
-
薄膜ディスクまたはウェハーの両面光学検査システムおよび方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-001750
Applicant:カンデラインスツルメンツ
-
欠陥検査方法及び欠陥検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-104153
Applicant:株式会社日立製作所
-
平らな加工物を製作するための装置及び方法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2000-579975
Applicant:オーボテックリミテッド
-
カラーフィルタの異物突起検出方法および検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-162853
Applicant:日立電子エンジニアリング株式会社
-
特開平3-125945
-
ウエハ検査方法及びシステム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-176420
Applicant:ライカマイクロシステムスセミコンダクタゲーエムベーハー
Show all
Return to Previous Page