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J-GLOBAL ID：200903053705401715

ポジ型感放射線性樹脂組成物

Inventor： 清水 大輔 ,  松村 信司 ,  西山 覚 ,  甲斐 敏之
Applicant, Patent owner： JSR株式会社
Agent (1)： 和気 操
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005304946
Publication number (International publication number)：2007114431
Application date： Oct. 19, 2005
Publication date： May. 10, 2007
Summary：

【課題】ラフネス、エッチング耐性、感度、解像度に優れ、微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができ、電子線または極紫外線に有効に感応するEB、EUV用として好適な化学増幅型ポジ型の感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】放射線が照射されることにより酸を発生する感放射線性酸発生剤(A)と、アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性であって酸の作用によりアルカリ易溶性となる酸解離性基含有樹脂(B)と、酸の作用により連鎖反応的に酸を発する酸増殖剤(C)と、放射線が照射されることにより塩基性を失う感光性塩基性化合物(D)とを含み、酸増殖剤(C)が炭素環骨格に下記式(1)で表されるスルホナート基を有する化合物である。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

放射線が照射されることにより酸を発生する感放射線性酸発生剤(A)と、アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性であって酸の作用によりアルカリ易溶性となる酸解離性基含有樹脂(B)と、酸の作用により連鎖反応的に酸を発する酸増殖剤(C)と、放射線が照射されることにより塩基性を失う感光性塩基性化合物(D)とを含むことを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物。

IPC (3)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F7/004 503 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

F-Term (15)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA09 ,  2H025AC03 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (10)

• ポジ型感放射線性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-235290   Applicant：東レ株式会社
• 深紫外線用のフォトレジスト組成物
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2001-544083   Applicant：クラリアント・インターナシヨナル・リミテッド
• 末端に非共有電子対を有する官能基を導入した高分子化合物、その製造方法及び該高分子化合物を使用したポジ型レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-186872   Applicant：科学技術振興事業団
• 微細パターン形成材料及びパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-246324   Applicant：和光純薬工業株式会社, 松下電器産業株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-275334   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型電子線又はX線レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-252141   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 電子線又はX線用ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-267329   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 電子線又はX線用ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-296777   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-282756   Applicant：JSR株式会社
• 酸増殖剤及び感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-130374   Applicant：市村國宏

Cited by examiner (5)

• 化学増幅型ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-078355   Applicant：住友化学工業株式会社
• 化学増幅型ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-092325   Applicant：市村國宏, 有限会社日本ケミックス, 住友化学工業株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-229160   Applicant：ジェイエスアール株式会社
• 深紫外線用のフォトレジスト組成物
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2001-544083   Applicant：クラリアント・インターナシヨナル・リミテッド
• レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-270932   Applicant：富士写真フイルム株式会社