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J-GLOBAL ID：200903039782041540

ポジ型電子線又はX線レジスト組成物

Inventor：
阿出川 豊

About 阿出川 豊

, 
児玉 邦彦

About 児玉 邦彦


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 萩野 平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999252141
Publication number (International publication number)：2001075283
Application date： Sep. 06, 1999
Publication date： Mar. 23, 2001
Summary：
【要約】【課題】 高解像力であり、矩形形状の優れたパターンプロファイルを与えることができ、しかも現像欠陥が少なく、PEB温度依存性が小さいポジ型電子線又はX線レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 電子線又はX線の照射により酸を発生する、電子求引性基を有するオニウム塩、酸の作用により、アルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型電子線又はX線レジスト組成物。
Claim (excerpt)：
(a)電子線又はX線の照射により酸を発生し、カチオン部位の置換基上に少なくとも一つの電子求引性基を有するオニウム塩、及び(b)酸の作用により、アルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型電子線又はX線レジスト組成物。
IPC (3)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027
FI (3)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (13)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BG00 ,  2H025CB41 ,  2H025CB52 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (15)
  • 新規オニウム塩およびそれを含有する感放射線性樹脂 組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-177743   Applicant：日本合成ゴム株式会社
  • ポジ型フォトレジスト組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-194590   Applicant：富士写真フイルム株式会社
  • ポジ型フォトレジスト組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-333145   Applicant：富士写真フイルム株式会社
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