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J-GLOBAL ID:200903062714788311
液晶表示装置用薄膜トランジスタ基板及びその製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小野 由己男 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999353680
Publication number (International publication number):2000180898
Application date: Dec. 13, 1999
Publication date: Jun. 30, 2000
Summary:
【要約】【課題】 液晶表示装置用薄膜トランジスタ基板の製造費用を減少させ、漏洩電流を防止する。【解決手段】 絶縁基板上にゲート配線を形成する段階と;ゲート配線を覆うゲート絶縁膜パターン、その上の半導体層パターン及び接触層パターンを含む三重層を形成する段階と;下部導電層及び上部導電層の二重層からなる導電体パターンを形成する段階と;導電体パターンで覆われない接触層パターンをエッチングする段階と;保護膜を形成する段階と;保護膜で覆われない導電体パターンの上部導電層をエッチングする段階と;を含む。
Claim (excerpt):
絶縁基板上にゲート配線を形成する段階と、前記ゲート配線を覆うゲート絶縁膜パターン、ゲート絶縁膜パターンの上の半導体層パターン及び接触層パターンを含む三重層を形成する段階と、下部導電層及び上部導電層の二重層からなる導電体パターンを形成する段階と、前記導電体パターンで覆われない接触層パターンを除去する段階と、保護膜を形成する段階と、保護膜で覆われない導電体パターンの上部導電層を除去する段階と、を含む液晶表示装置用薄膜トランジスタ基板の製造方法。
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (15)
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特開平3-059540
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液晶表示装置及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-198227
Applicant:富士通株式会社
-
液晶表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-042722
Applicant:株式会社東芝
-
電気光学素子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-251052
Applicant:株式会社フロンテック
-
薄膜半導体装置及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-309237
Applicant:株式会社日立製作所
-
薄膜トランジスタ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-264214
Applicant:株式会社東芝
-
薄膜トランジスタの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-137423
Applicant:カシオ計算機株式会社
-
薄膜トランジスタマトリクス装置及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-221645
Applicant:富士通株式会社
-
液晶表示装置およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-068352
Applicant:株式会社東芝
-
特開平3-122620
-
レジストパターンの形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-303317
Applicant:カシオ計算機株式会社
-
薄膜のパターニング方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-318396
Applicant:シャープ株式会社
-
液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-216427
Applicant:エルジー電子株式会社
-
特開昭61-141478
-
特開昭62-285464
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Cited by examiner (16)
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特開平3-059540
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液晶表示装置及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-198227
Applicant:富士通株式会社
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液晶表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-042722
Applicant:株式会社東芝
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Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-251052
Applicant:株式会社フロンテック
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Application number:特願平5-309237
Applicant:株式会社日立製作所
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薄膜トランジスタ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-264214
Applicant:株式会社東芝
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薄膜トランジスタの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-137423
Applicant:カシオ計算機株式会社
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特開平3-059540
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薄膜トランジスタマトリクス装置及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-221645
Applicant:富士通株式会社
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Application number:特願平7-068352
Applicant:株式会社東芝
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特開平3-122620
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Application number:特願平7-303317
Applicant:カシオ計算機株式会社
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Application number:特願平8-318396
Applicant:シャープ株式会社
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液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法
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Application number:特願平8-216427
Applicant:エルジー電子株式会社
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特開昭61-141478
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特開昭62-285464
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