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J-GLOBAL ID：200903067723752046

感放射線性樹脂組成物

Inventor： 西村 幸生 ,  石井 寛之 ,  佐野 公康 ,  小林 英一
Applicant, Patent owner： ジェイエスアール株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002009190
Publication number (International publication number)：2003215804
Application date： Jan. 17, 2002
Publication date： Jul. 30, 2003
Summary：

【要約】【課題】 放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れる感放射線性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】 アルキルアダマンチル(メタ)アクリレート由来の繰り返し単位およびメバロニックラクトン(メタ)アクリレート由来の繰り返し単位を含有するアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂であって、酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂、並びに感放射線性酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物を提供する。

Claim (excerpt)：

(A)下記一般式(I-1)で表される繰り返し単位および下記一般式(I-2)で表される繰り返し単位を有するアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂であって、酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂、並びに(B)感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】〔一般式(I-1)および一般式(I-2)において、R1 およびR3 は相互に独立に水素原子またはメチル基を示し、R2 およびR4 は相互に独立に水素原子または炭素数1〜4の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基を示す。〕

IPC (5)：

G03F 7/039 601 ,  C08F220/16 ,  C08F220/28 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/039 601 ,  C08F220/16 ,  C08F220/28 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (61)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA09 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17 ,  4J100AG02S ,  4J100AG04S ,  4J100AJ08S ,  4J100AJ09S ,  4J100AK31S ,  4J100AK32S ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AL09S ,  4J100AL29S ,  4J100AL62S ,  4J100AL66S ,  4J100AM01S ,  4J100AM02S ,  4J100AM03S ,  4J100AM14S ,  4J100AM15S ,  4J100AM19R ,  4J100AM33S ,  4J100AQ08S ,  4J100AQ12S ,  4J100AQ19S ,  4J100BA03R ,  4J100BA04S ,  4J100BA11Q ,  4J100BA15S ,  4J100BA16S ,  4J100BB01S ,  4J100BC02S ,  4J100BC03S ,  4J100BC04S ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC09S ,  4J100BC53Q ,  4J100BD12R ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA28 ,  4J100DA39 ,  4J100FA03 ,  4J100JA37

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

• 遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-152861   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-312722   Applicant：富士通株式会社
• 遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-158693   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 化学増幅型ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-315265   Applicant：住友化学工業株式会社
• レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-162398   Applicant：富士通株式会社
• 酸感応性重合体、レジスト組成物、レジストパターン形成方法、および半導体装置の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-165935   Applicant：富士通株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-347330   Applicant：ジェイエスアール株式会社
• レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-320105   Applicant：富士通株式会社
• 化学増幅型ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-021687   Applicant：住友化学工業株式会社
• 化学増幅型ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-364726   Applicant：住友化学工業株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• A New Single-Layer Resist for 193-nm Lithography