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J-GLOBAL ID：200903072471694416

プラズマ生成装置およびプラズマ処理装置

Inventor：
野口 武史

About 野口 武史


Applicant, Patent owner：
ワイエイシイ株式会社

About ワイエイシイ株式会社


Agent (1)： 志賀 正武 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000012269
Publication number (International publication number)：2001203099
Application date： Jan. 20, 2000
Publication date： Jul. 27, 2001
Summary：
【要約】【課題】 スロットアンテナを利用したマイクロ波放電においては、スロットアンテナの形成位置に制約があるため、所望のプラズマ分布を得ることができなかった。【解決手段】 マイクロ波を伝送する導波管11と、複数のスロットアンテナ13が形成されている放射用導波管12と、誘電体窓31を介してスロットアンテナ13からの電磁放射を受けるよう構成された放電チャンバ30と、を具備してなるプラズマ生成装置であって、スロットアンテナ13の近傍における放射用導波管12の寸法を局所的に変化させ、これにより、放射用導波管12内におけるマイクロ波の波長を局所的に変化させて、スロットアンテナ13から放電チャンバ30に向けて放射される電磁放射の強度分布を制御可能とした。
Claim (excerpt)：
マイクロ波発振器より発振されたマイクロ波を伝送する導波管と、この導波管に対して接続されるとともに複数のスロットアンテナが形成されている放射用導波管と、この放射用導波管が誘電体窓を介して連結されていて前記スロットアンテナからの電磁放射を受けるよう構成された放電チャンバと、を具備してなるプラズマ生成装置であって、前記スロットアンテナの近傍における前記放射用導波管の寸法を局所的に変化させ、これにより、前記放射用導波管内における前記マイクロ波の波長を局所的に変化させて、前記スロットアンテナから前記放電チャンバに向けて放射される電磁放射の強度分布を制御可能としたことを特徴とするプラズマ生成装置。
IPC (3)：
H05H 1/46 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31
FI (4)：
H05H 1/46 B ,  H05H 1/46 L ,  H01L 21/31 C ,  H01L 21/302 B
F-Term (12)：
5F004AA01 ,  5F004BA20 ,  5F004BB11 ,  5F004BB14 ,  5F004BC08 ,  5F004BD01 ,  5F004BD04 ,  5F004CA09 ,  5F045AA09 ,  5F045BB02 ,  5F045EH11 ,  5F045EH19
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (11)
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