自己組織化単分子膜作製装置とその利用

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (3)：安部誠 , 大井道子 , 手島勝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006352281
Publication number (International publication number)：2008161779
Application date： Dec. 27, 2006
Publication date： Jul. 17, 2008
Summary：

【課題】被処理物の表面に自己組織化単分子膜(SAM)を効率よく作製することのできる方法および該方法に適した装置を提供すること。【解決手段】本発明に係るSAM作製装置1は、被処理物Wが導入されるチャンバ10と、該チャンバ内の空間11にSAM形成材料を供給するSAM供給手段20と、該チャンバ内を通して被処理物Wを搬送する被処理物搬送手段40とを備える。SAM供給手段10は、SAM形成材料を含むミストMを生成する霧化器22と、そのミストを加熱する加熱器24とを含み、チャンバ10に導入された被処理物Wにチャンバ内の空間11にあるSAM形成材料が付着するように構成されている。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

被処理物の表面に自己組織化単分子膜を作製する装置であって、前記被処理物が導入されるチャンバと、該チャンバ内の空間に自己組織化単分子膜形成材料を供給する膜形成材料供給手段と、該チャンバ内を通して前記被処理物を搬送する被処理物搬送手段と、を備え、ここで、前記膜形成材料供給手段は前記自己組織化単分子膜形成材料を含むミストを生成する霧化器と該ミストを加熱する加熱器とを含み、前記チャンバに導入された前記被処理物に該チャンバ内の空間にある自己組織化単分子膜形成材料が付着するように構成されている、自己組織化単分子膜の作製装置。

IPC (1)：

B01J 19/00

FI (1)：

B01J19/00 K

F-Term (15)：

4G075AA24 , 4G075BA04 , 4G075BA05 , 4G075BB02 , 4G075BB05 , 4G075BD14 , 4G075CA02 , 4G075CA03 , 4G075CA33 , 4G075CA54 , 4G075DA02 , 4G075EB01 , 4G075EB31 , 4G075EC01 , 4G075ED11

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

自己組織化単分子膜の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-337255 Applicant：株式会社同仁化学研究所, 魚崎浩平
自己組織化単分子膜の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-113775 Applicant：財団法人理工学振興会
自己組織化単分子膜(Self-AssembledMonolayers)の形成
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-370544 Applicant：セイコーエプソン株式会社, ケンブリッジ大学テクニカルサービスリミテッド

Cited by examiner (8)

薄膜形成装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-318824 Applicant：松下電器産業株式会社
液体原料用CVD装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-100869 Applicant：菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社, 三菱電機株式会社
化学吸着膜の形成方法、及び化学吸着膜
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-217069 Applicant：セイコーエプソン株式会社

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