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J-GLOBAL ID：200903073883556766

遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor：
佐藤 健一郎

About 佐藤 健一郎

, 
河辺 保雅

About 河辺 保雅


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 萩野 平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999186607
Publication number (International publication number)：2001013686
Application date： Jun. 30, 1999
Publication date： Jan. 19, 2001
Summary：
【要約】【課題】 レジスト液の保存安定性が優れた遠紫外線露光用ポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、特定の構造の、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂、並びにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート又はプロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネートと、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びエトキシエチルプロピオネートのうち少なくとも1種とを含有する混合溶剤を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。
Claim (excerpt)：
(イ)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、(ロ)(a)下記一般式(pI)〜(pVI)で表される脂環式炭化水素構造を含む基のうちの少なくとも1種の基で保護されたアルカリ可溶性基を有する繰り返し単位、(b)下記一般式(II)で表される繰り返し単位、および(c)下記一般式(III-a)〜(III-d)で表される繰り返し単位のうち少なくとも1種を含み、かつ酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂並びに(ハ)(1)プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート又はプロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネートと、(2)乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びエトキシエチルプロピオネートのうち少なくとも1種とを含有する混合溶剤を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。【化1】一般式(pI)〜(pVI)中;R11は、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基またはsec-ブチル基を表し、Zは、炭素原子とともに脂環式炭化水素基を形成するのに必要な原子団を表す。R12〜R16は、各々独立に、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基または脂環式炭化水素基を表し、但し、R12〜R14のうち少なくとも1つ、もしくはR15、R16のいずれかは脂環式炭化水素基を表す。R17〜R21は、各々独立に、水素原子、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基または脂環式炭化水素基を表し、但し、R17〜R21のうち少なくとも1つは脂環式炭化水素基を表す。また、R19、R21のいずれかは炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基または脂環式炭化水素基を表す。R22〜R25は、各々独立に、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基または脂環式炭化水素基を表し、但し、R22〜R25のうち少なくとも1つは脂環式炭化水素基を表す。【化2】一般式(II)中;R1は、水素原子、ハロゲン原子または1〜4個の炭素原子を有する直鎖もしくは分岐のアルキル基を表す。X1は、2価の連結基を表す。Lcは、ラクトン基を表す。【化3】上記式中、R1は、水素原子、ハロゲン原子または1〜4個の炭素原子を有する直鎖もしくは分岐のアルキル基を表す。R30〜R37は各々独立に水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基を表す。Rは、水素原子あるいは、置換基を有していてもよい、アルキル基、環状アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。mは、1〜10の整数を表す。X2は、単結合又は、置換基を有していてもよい、アルキレン基、環状アルキレン基、アリーレン基あるいは、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、エステル基、アミド基、スルフォンアミド基、ウレタン基、ウレア基からなる群から選択される単独、あるいはこれらの基の少なくとも2つ以上が組み合わされ、酸の作用により分解しない2価の基を表す。Z1は、単結合、エーテル基、エステル基、アミド基、アルキレン基、又はこれらを組み合わせた2価の基を表す。R38は、単結合、アルキレン基、アリーレン基、又はこれらを組み合わせた2価の基を表す。R40は、アルキレン基、アリーレン基、又はこれらを組み合わせた2価の基を表す。R39は置換基を有していてもよい、アルキル基、環状アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。R41は、水素原子あるいは、置換基を有していてもよい、アルキル基、環状アルキル基、アルケニル基、アリール基又はアラルキル基を表す。Aは、下記に示す官能基のいずれかを表す。【化4】
IPC (3)：
G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/10
FI (3)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 20/10 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (58)：
2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025CB06 ,  2H025CB07 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB15 ,  2H025CB52 ,  2H025CC03 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  4J100AB07R ,  4J100AF10R ,  4J100AJ02R ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AM21R ,  4J100BA02P ,  4J100BA03R ,  4J100BA04R ,  4J100BA05R ,  4J100BA06R ,  4J100BA08R ,  4J100BA11Q ,  4J100BA11R ,  4J100BA12P ,  4J100BA12R ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA15R ,  4J100BA20R ,  4J100BA34R ,  4J100BA37R ,  4J100BA38R ,  4J100BA58R ,  4J100BA59R ,  4J100BB01R ,  4J100BC02P ,  4J100BC04P ,  4J100BC04R ,  4J100BC08P ,  4J100BC08R ,  4J100BC09P ,  4J100BC12P ,  4J100BC12R ,  4J100BC23R ,  4J100BC43R ,  4J100BC48R ,  4J100BC49R ,  4J100BC53Q ,  4J100BC53R ,  4J100BC59R ,  4J100CA05 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
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