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J-GLOBAL ID：200903079893854305
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクス及びハーフトーン型位相シフトマスク
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998065775
Publication number (International publication number)：1999258772
Application date： Mar. 16, 1998
Publication date： Sep. 24, 1999
Summary：
【要約】【課題】 熱処理工程及び特定の薬液処理工程を経ても透過率、屈折率及び消衰係数等の光学定数の変化を起こさないハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクス及びハーフトーン型位相シフトマスクを提供することである。【解決手段】 窒素、酸素、ハロゲンガス等の雰囲気中でジルコニウム又はジルコニウムシリサイドターゲットを使用したスパッタリングにて、石英ガラスからなる透明基板11上に屈折率、消衰係数及び膜厚を調節したジルコニウム又はジルコニウム化合物膜からなる半透明膜12を成膜した後大気又は酸化性雰囲気中で200°C以上の温度にて加熱処理して半透明膜12上に酸化膜層13を形成し、ハーフトーン型位相シフトマスクブランクス10を作製する。さらに、ハーフトーン型位相シフトマスクブランクス10をパターニング処理してハーフトーン型位相シフトマスク20を得る。
Claim (excerpt)：
透明基板上に半透明膜が形成されたハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクスにおいて、該半透明膜の最表面に80Å以上の厚さの酸化膜層を設けたことを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクス。
IPC (2)：
FI (2)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
Cited by examiner (11)
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